[發(fā)明專利]一種獨(dú)立基礎(chǔ)及其澆筑工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010564811.X | 申請(qǐng)日： | 2020-06-19 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111648393A | 公開（公告）日： | 2020-09-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 朱丹;封劍森;潘正良;陸明坤;吳勇政;張偉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 江蘇華江祥瑞現(xiàn)代建筑發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào)： | E02D27/01 | 分類號(hào)： | E02D27/01;E02D27/42 |
| 代理公司： | 揚(yáng)州潤中專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32315 | 代理人： | 張琳 |
| 地址： | 225200 江蘇省揚(yáng)州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 獨(dú)立 基礎(chǔ) 及其 澆筑 工藝 | ||
1.一種獨(dú)立基礎(chǔ)，包括基坑(1)與獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)，其特征在于：所述基坑(1)底部設(shè)置有墊層混凝土(2)，所述獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)設(shè)置在墊層混凝土(2)頂部中軸處，所述獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)左右兩側(cè)均設(shè)置有壓板一(3)，兩個(gè)所述壓板一(3)相互遠(yuǎn)離的一側(cè)均固定連接有卡塊(4)，兩個(gè)所述壓板一(3)相互遠(yuǎn)離的一側(cè)均設(shè)置有支撐桿(5)，兩個(gè)所述壓板一(3)的頂部均設(shè)置有卡板(9)，兩個(gè)所述卡板(9)均分別與兩個(gè)壓板一(3)卡接，兩個(gè)所述卡板(9)頂部均分別固定連接有固定套(10)，兩個(gè)所述壓板一(3)相互靠近的一側(cè)設(shè)置有壓板二(13)，兩個(gè)所述壓板二(13)上均固定連接有連接塊(12)，兩個(gè)所述壓板一(3)上方均設(shè)置有螺紋桿(11)，兩個(gè)所述螺紋桿(11)均分別貫穿兩個(gè)固定套(10)與連接塊(12)，兩個(gè)所述螺紋桿(11)均分別與兩個(gè)固定套(10)和連接塊(12)螺紋連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種獨(dú)立基礎(chǔ)，其特征在于：兩個(gè)所述壓板一(3)均分別與獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)兩端接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種獨(dú)立基礎(chǔ)，其特征在于：所述獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)內(nèi)壁底部設(shè)置有鋼筋網(wǎng)(6)，所述鋼筋網(wǎng)(6)頂部中軸處設(shè)置有柱筋(7)，所述柱筋(7)貫穿獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)且延伸至獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)外部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種獨(dú)立基礎(chǔ)，其特征在于：兩個(gè)所述支撐桿(5)均為向上的傾斜設(shè)置，兩個(gè)所述支撐桿(5)相互靠近的一端均分別與兩個(gè)壓板一(3)和卡塊(4)的夾角相接觸，兩個(gè)所述支撐桿(5)相互遠(yuǎn)離的一側(cè)均分別與基坑(1)內(nèi)壁左右兩端的底部接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種獨(dú)立基礎(chǔ)，其特征在于：兩個(gè)所述壓板二(13)均為向上的傾斜設(shè)置，兩個(gè)所述壓板二(13)相互遠(yuǎn)離的一端均分別與兩個(gè)壓板一(3)接觸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種獨(dú)立基礎(chǔ)，其特征在于：兩個(gè)所述連接塊(12)均分別與兩個(gè)固定套(10)水平設(shè)置。
7.一種獨(dú)立基礎(chǔ)澆筑工藝，其特征在于：包括以下步驟：
S1、選定好獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)安裝的區(qū)域，在選定區(qū)域挖出基坑(1)；
S2、在基坑(1)底部澆筑出墊層混凝土(2)，且在墊層混凝土(2)上方綁扎鋼筋網(wǎng)(6)與柱筋(7)；
S3、按照獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)的長度搭建好壓板一(3)，并通過支撐桿(5)對(duì)壓板一(3)進(jìn)行固定；
S4、再搭建出壓板二(13)，并通過螺紋桿(11)對(duì)壓板二(13)進(jìn)行支撐固定，完成對(duì)模板的搭建；
S5、在搭建好的模板內(nèi)澆筑混凝土；
S6、混凝土凝固后依次拆除壓板二(13)與壓板一(3)；
S7、將基坑(1)回填，澆筑完成，得到獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種獨(dú)立基礎(chǔ)澆筑工藝，其特征在于：所述獨(dú)立基礎(chǔ)本體(8)的長度小于基坑(1)的長度。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種獨(dú)立基礎(chǔ)澆筑工藝，其特征在于：所述S4中搭建好的模板內(nèi)清潔無雜物。
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