[發明專利]一種聚合物平坦化處理的TiO2

在審

• 申請號: 202010562746.7
• 申請日: 2020-06-18
• 公開（公告）號: CN111769203A
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發明（設計）人: 劉利會;陳定甫;謝炬炫;陳淑芬;黃維
• 申請（專利權）人: 南京郵電大學
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 蘇虹

1.一種聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜，其特征在于：包括基底、位于基底上的TiO₂散射薄膜和修飾在TiO₂散射薄膜表面的聚合物平坦層。

2.根據權利要求1所述的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜，其特征在于：所述基底包括剛性基底和柔性基底。

3.根據權利要求1所述的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜，其特征在于：聚合物平坦層由聚合物在TiO₂散射薄膜表面沉積形成，所述聚合物為聚甲基丙烯酸甲酯或聚偏二氯乙烯。

4.一種權利要求1所述的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

(1)配制聚合物溶液和TiO₂納米粒子-聚合物溶液；

(2)采用溶液法在基底上制備TiO₂散射薄膜；

(3)采用溶液法在TiO₂散射薄膜表面形成聚合物平坦層，得到聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜。

5.根據權利要求4所示的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜的制備方法，其特征在于TiO₂納米粒子-聚合物溶液的配制包括將TiO₂納米粒子分散于聚合物溶液中，聚合物溶液的溶劑為有機溶劑，聚合物溶液的濃度為50～100mg ml^-1；TiO₂納米粒子的濃度為0.25～0.75wt％。

6.根據權利要求4所示的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜的制備方法，其特征在于：TiO₂納米粒子的直徑為100～200nm。

7.根據權利要求4所示的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜的制備方法，其特征在于：TiO₂散射薄膜的厚度為0.5～1.5μm，聚合物平坦層的厚度為0.5～1.5μm。

8.根據權利要求4所示的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜的制備方法，其特征在于：溶液法為旋涂、噴墨打印、噴涂、刮涂或絲網印刷。

9.一種有機發光器件，其特征在于：該器件包括權利要求1～3任一項所述的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜。

10.權利要求1～3任一項所述的聚合物平坦化處理的TiO₂散射薄膜在有機發光器件中作為內部光提取結構的應用。