[發(fā)明專利]一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010558842.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111850685A | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐慧麗;劉波;徐軍;羅平;王慶國;何諾天;吳鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 同濟(jì)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C30B29/16 | 分類號(hào): | C30B29/16;C30B15/00;C30B15/14;C30B15/30;G01T1/00;G01T1/202 |
| 代理公司: | 上海科盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225 | 代理人: | 劉燕武 |
| 地址: | 200092 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 衰減 輸出 氧化 閃爍 晶體 及其 制備 方法 | ||
1.一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體,其特征在于,其化學(xué)式為β-Ga2O3:M,M為摻雜的Ge4+或Al3+離子中的一種或兩種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體,其特征在于,M在β-Ga2O3晶體中的摻雜總濃度為1~15at.%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體,其特征在于,Ge4+或Al3+離子分別由GeO2、Al2O3提供。
4.如權(quán)利要求1-3任一所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)取氧化鎵原料與提供摻雜離子M的原料粉末充分混合均勻,等靜壓壓制成型,再燒結(jié)得到晶體生長(zhǎng)所用氧化鎵陶瓷原料;
(2)將氧化鎵陶瓷原料置于坩堝中,同時(shí),取β-Ga2O3籽晶放入籽晶夾具內(nèi);
(3)導(dǎo)模爐內(nèi)抽真空后,通入He氣和CO2混合氣體,加熱使得坩堝內(nèi)各原料完全熔化;
(4)控制坩堝上升,直至模具底部置入坩堝內(nèi),然后,維持模具靜止不動(dòng),旋轉(zhuǎn)坩堝攪拌熔體,使得坩堝內(nèi)原料熔體內(nèi)的摻雜離子M分布均勻,再停止坩堝旋轉(zhuǎn);
(5)烤β-Ga2O3籽晶,下降β-Ga2O3籽晶,使得β-Ga2O3籽晶與模具刃口處熔體充分接觸并浸泡;
(6)降低加熱功率并恒溫,再提拉生長(zhǎng)晶體,生長(zhǎng)過程中,每間隔一段時(shí)間即停止提拉,并恒溫進(jìn)行坩堝旋轉(zhuǎn),然后接著提拉生長(zhǎng)晶體;
(7)當(dāng)晶體生長(zhǎng)到指定長(zhǎng)度后,脫離模具,降溫冷卻至室溫,即得到目的產(chǎn)物氧化鎵閃爍晶體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,燒結(jié)工藝具體為:1500~1600℃恒溫?zé)Y(jié)10~20h。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,β-Ga2O3籽晶與模具頂端的截面尺寸相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,He氣和CO2氣體的體積比為1:(1-3),且混合氣體的通入量滿足:導(dǎo)模爐內(nèi)壓強(qiáng)為1.02~1.1MPa。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體的制備方法,其特征在于,導(dǎo)模爐內(nèi)的加熱區(qū)域分為獨(dú)立控制加熱的主溫區(qū)和副溫區(qū),且副溫區(qū)位于主溫區(qū)的上方,其中,主溫區(qū)感應(yīng)銥金坩堝用于加熱原料,副溫區(qū)感應(yīng)后熱器用于調(diào)節(jié)熱場(chǎng)的軸向溫度梯度和原位退火生長(zhǎng)的晶體。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體的制備方法,其特征在于,主溫區(qū)與副溫區(qū)均采用感應(yīng)加熱的方式,且副溫區(qū)的加熱功率比主溫區(qū)低0.5~2KW。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種快衰減高光輸出氧化鎵閃爍晶體的制備方法,其特征在于,步驟(5),烤β-Ga2O3籽晶時(shí),控制主溫區(qū)的加熱功率升高100-500W;
步驟(6)中,先將加熱功率降低100-500W,然后再恒溫15-30min;
提拉生長(zhǎng)晶體的提拉速率為3~10mm/h,生長(zhǎng)過程中每間隔4-6h即停止提拉,且在坩堝停止旋轉(zhuǎn)5-10min后再繼續(xù)提拉生長(zhǎng)晶體。
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