[發(fā)明專利]輔助圖形嵌入方法及嵌入模塊

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010558774.1
• 申請(qǐng)日: 2020-06-18
• 公開（公告）號(hào): CN111766760A
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張國乾;胡展源;曾鼎程
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力集成電路制造有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/38
• 分類號(hào): G03F1/38;G06F30/392
• 代理公司: 上海浦一知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211
• 代理人: 焦天雷

本發(fā)明公開了一種輔助圖形嵌入方法，其用于光刻掩膜版制造，包括識(shí)別設(shè)計(jì)規(guī)則中的主要圖形，所述主要圖形是光刻掩膜版上用于形成器件功能區(qū)的圖形；將小于預(yù)設(shè)Pitch閾值的主要圖形擬合形成主要圖形虛擬合集；根據(jù)設(shè)計(jì)規(guī)則在主要圖形虛擬合集旁側(cè)嵌入輔助圖形，所述輔助圖形是集成電路生產(chǎn)過程中的輔助透光圖形。將圖形虛擬合集恢復(fù)為主要圖形，完成輔助圖形嵌入。本發(fā)明還公開了一種輔助圖形嵌入模塊。本發(fā)明能提高光刻掩膜版輔助圖形嵌入計(jì)算效率和嵌入計(jì)算精度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及集成電路生產(chǎn)制造領(lǐng)域，特別是一種用于光刻掩膜版制造工藝的輔助圖形嵌入方法。本發(fā)明還涉及一種用于光刻掩膜版制造的輔助圖形嵌入模塊。

背景技術(shù)

光刻掩膜版(又稱光罩，英文為Mask Reticle)，簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC(Integrated Circuit，集成電路)、FPD(Flat Panel Display，平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards，印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng))等。

光刻掩膜版的制造過程，包括：根據(jù)設(shè)計(jì)規(guī)則繪制生成設(shè)備可以識(shí)別的掩膜版版圖文件(GDS格式)，使用無掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對(duì)帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光；照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層。使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會(huì)被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對(duì)掩膜版進(jìn)行清洗。

上述光刻掩膜版制造過程中，輔助圖形根據(jù)主要圖形的位置鑲?cè)耄⒔?jīng)過處理形成最后要輸出的圖形，參考圖1所示。在根據(jù)主要圖形的位置鑲?cè)胼o助圖形，由于存在多個(gè)主要圖形，造成輔助圖形鑲?cè)胛恢糜?jì)算需要耗費(fèi)大量時(shí)間，影響生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

在發(fā)明內(nèi)容部分中引入了一系列簡(jiǎn)化形式的概念,該簡(jiǎn)化形式的概念均為本領(lǐng)域現(xiàn)有技術(shù)簡(jiǎn)化，這將在具體實(shí)施方式部分中進(jìn)一步詳細(xì)說明。本發(fā)明的發(fā)明內(nèi)容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護(hù)的技術(shù)方案的關(guān)鍵特征和必要技術(shù)特征，更不意味著試圖確定所要求保護(hù)的技術(shù)方案的保護(hù)范圍。

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種能提高光刻掩膜版輔助圖形嵌入計(jì)算效率和嵌入計(jì)算精度的輔助圖形嵌入方法。

本發(fā)明要解決的另一技術(shù)問題是提供一種能提高光刻掩膜版輔助圖形嵌入計(jì)算效率和嵌入計(jì)算精度的輔助圖形嵌入模塊。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供用于光刻掩膜版制造的輔助圖形嵌入方法，包括以下步驟：

S1，識(shí)別設(shè)計(jì)規(guī)則中的主要圖形，所述主要圖形是光刻掩膜版上用于形成器件功能區(qū)的圖形；

S2，將小于預(yù)設(shè)Pitch閾值的主要圖形擬合形成主要圖形虛擬合集；

Pitch是跨距、腳距、墊距、線距、中距。

S3，根據(jù)設(shè)計(jì)規(guī)則在主要圖形虛擬合集旁側(cè)嵌入輔助圖形，所述輔助圖形是集成電路生產(chǎn)過程中的輔助透光圖形。

S4，將圖形虛擬合集恢復(fù)為主要圖形，完成輔助圖形嵌入。

可選擇的，將小于預(yù)設(shè)Pitch閾值的主要圖形沿外邊線擬合形成主要圖形虛擬合集，所述外邊線是指該邊線之外不存所述重復(fù)主要圖形。