[發明專利]一種控制系統和控制方法在審
| 申請號： | 202010555408.0 | 申請日： | 2020-06-17 |
| 公開（公告）號： | CN111577644A | 公開（公告）日： | 2020-08-25 |
| 發明（設計）人： | 宋永輝;蔡浩杰;徐偉;王兆豐 | 申請（專利權）人： | 上海松尚國際貿易有限公司 |
| 主分類號： | F04D27/00 | 分類號： | F04D27/00;F04D19/04;F04D25/16 |
| 代理公司： | 無錫派爾特知識產權代理事務所(普通合伙) 32340 | 代理人： | 楊立秋 |
| 地址： | 200000 上海市浦東新區中國(*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 控制系統 控制 方法 | ||
本申請涉及一種控制系統和控制方法，屬于工業設備技術領域，所述系統包括：預抽真空室、隔離閥、高真空計、高精度真空計、分子泵、氣動閥、粗抽閥、前級壓力計、干泵和截止閥；隔離閥連接分子泵和預抽真空室，用于隔離分子泵和預抽真空室；高真空計和高精度真空計容納在預抽真空室中；氣動閥與預抽真空室連通，用于控制向預抽真空室中充入氣體；預抽真空室通過粗抽閥與系統泵連接；分子泵通過截止閥連接前級壓力計和干泵。解決了現有技術中使用冷泵的情況下可能出現抖動，需要定期維護，成本高的問題；達到了可以減少抖動，降低作業人員的維護成本的效果。
技術領域
本申請涉及一種控制系統和控制方法，屬于工業設備技術領域。
背景技術
采用CENTURA5200的晶圓承載平臺做PVD 的工藝時，需要在預抽真空室（LOADLOCK）保持高真空度，普通的方式是采用干泵，真空度可以達到10-3Torr;比如采用干泵+冷泵的方式，真空度可以達到10-6Torr，但是冷泵面臨著震動較大，需要配備壓縮機及定期維護的問題。
發明內容
本申請提供了一種控制系統和控制方法，可以解決現有方案中的問題。本申請提供如下技術方案：
第一方面，提供了一種控制系統，所述系統包括：
預抽真空室、隔離閥、高真空計、高精度真空計、分子泵、氣動閥、粗抽閥、前級壓力計、干泵和截止閥；
所述隔離閥連接所述分子泵和所述預抽真空室，用于隔離所述分子泵和所述預抽真空室；
所述所述高真空計和所述高精度真空計容納在所述預抽真空室中；
所述氣動閥與所述預抽真空室連通，用于控制向所述預抽真空室中充入氣體；
所述預抽真空室通過所述粗抽閥與系統泵連接；
所述分子泵通過所述截止閥連接所述前級壓力計和所述干泵。
可選的，所述預抽真空室有兩個，每個預抽真空室對應于一組隔離閥、高真空計、高精度真空計、分子泵、氣動閥、粗抽閥、前級壓力計、干泵和截止閥。
可選的，所述系統還包括可編程邏輯控制器PLC，所述PLC控制器與所述隔離閥、所述高真空計、所述高精度真空計、所述分子泵、所述氣動閥、所述粗抽閥、所述前級壓力計、所述干泵和所述截止閥電性連接。
可選的，所述高精度真空計為MKS Baratron 真空計。
可選的，高真空計可以為ION GAUGE。
第二方面，提供了一種控制方法，所述方法包括：
在初始狀態下，開啟所述截止閥并啟動所述分子泵；所述初始狀態下所述氣動閥和所述粗抽閥均關閉，所述預抽真空室為大氣狀態；
在機臺上料完畢后，開啟所述粗抽閥，通過系統泵將所述預抽真空室抽至第一預設真空后關閉所述粗抽閥；
開啟所述隔離閥，通過所述分子泵將所述預抽真空室抽至第二預設真空，并執行工藝傳輸；
在工藝完成后，關閉所述高真空計后關閉所述隔離閥，開啟所述氣動閥后給所述預抽真空室充入氣體；
在所述預抽真空室達到大氣狀態時，關閉所述氣動閥，并對所述預抽真空室進行下料。
可選的，所述方法還包括：
在通過所述系統泵將所述預抽真空室抽至所述第一預設真空時，通過所述高精度真空計來測量真空狀態。
可選的，所述方法還包括：
在通過所述分子泵將所述預抽真空室抽至所述第二預設真空時，通過所述高真空計來測量真空狀態。
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