[發明專利]一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的方法及凈化設備在審
| 申請號: | 202010554925.6 | 申請日: | 2020-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN111778396A | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發明(設計)人: | 諸子榮;歸建紅 | 申請(專利權)人: | 德清縣立榮金屬粉末有限公司 |
| 主分類號: | C22B3/38 | 分類號: | C22B3/38;C22B3/02;C22B3/22;C22B23/00 |
| 代理公司: | 北京華仁聯合知識產權代理有限公司 11588 | 代理人: | 孫艾明 |
| 地址: | 313000 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硫酸 溶液 凈化 雜質 方法 設備 | ||
1.一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1,將硫酸鈷原液冷卻結晶后得到硫酸鈷晶體,硫酸鈷晶體溶于水中得到硫酸鈷母液;
步驟2,將萃取劑P507用氫氧化鈉皂化,并與硫酸鎳溶液混合,進行逆流萃取,形成的有機相為P507鎳皂;
步驟3,將P507鎳皂加入硫酸鈷母液中,并調節硫酸鈷母液的PH值為5-5.5,在第一設定溫度下逆流萃取,使硫酸鈷母液中的鈷、鎘轉入有機相,鎳保留在水相中,進行有機相和水相分離;
步驟4,對步驟3中分離后的有機相進行萃取,使鎳與鈷分離;
步驟5,對步驟4中萃取后的有機相用稀鹽酸進行洗滌,使有機相中的鎘轉到水相中;
步驟6,對步驟5中的洗滌后的有機相用稀硫酸在第二設定溫度下進行反萃取,產出不含鎘的硫酸鈷反萃液。
2.根據權利要求1所述的一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的方法,其特征在于:所述第一設定溫度為40-50℃,所述第二設定溫度為25-30℃。
3.根據權利要求1所述的一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的方法,其特征在于:步驟2中,所述萃取劑P507的皂化率為70%,體積分數為25%。
4.根據權利要求4所述的一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的方法,其特征在于:步驟2中,所述P507鎳皂中添加有仲辛醇。
5.根據權利要求1所述的一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的方法,其特征在于:步驟3中有機相與水相體積比為3:1-4:1。
6.根據權利要求1所述的一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的方法,其特征在于:步驟4中,在萃取之前先將有機相放置在富氧環境中,放置時間為2-5min。
7.根據權利要求1所述的一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的方法,其特征在于:步驟5中,稀鹽酸濃度為1-1.5mol/L,有機相與水相體積比為10:1-15:1。
8.根據權利要求1所述的一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的凈化設備,其特征在于:包括皂化箱、第一萃取箱、第二萃取箱、第三萃取箱、洗鎘箱和第四萃取箱,各箱體之間通過有機流槽相連通。
9.根據權利要求9所述的一種硫酸鈷溶液凈化除鎳、鎘雜質的凈化設備,其特征在于:所述第一萃取箱、第二萃取箱、第三萃取箱和第四萃取箱內均設置有萃取機和溫控裝置。
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