[發明專利]EB雙面輻照系統

有效

• 申請號: 202010553878.3
• 申請日: 2020-06-17
• 公開（公告）號: CN113798134B
• 公開（公告）日: 2022-10-04
• 發明（設計）人: 賈朝偉;李琦;曾利;羅德坤;劉帥
• 申請（專利權）人: 四川智研科技有限公司
• 主分類號: B05C9/04
• 分類號: B05C9/04;B05C9/12;B05C1/08;B05C13/02;B05D3/06;B05D3/04;B41F13/02;B41F13/10;B41F23/04;B65H20/02
• 代理公司: 綿陽遠卓弘睿知識產權代理事務所(普通合伙) 51371
• 代理人: 蔣海燕

1.一種EB雙面輻照系統，包括放卷單元、EB輻照單元、收卷單元，其特征在于，還包括：

沿著基材走膜方向對基材兩面分別進行涂布或印刷處理的第一涂布或印刷單元、第二涂布或印刷單元；

以及與第一涂布或印刷單元、第二涂布或印刷單元相配合，將涂布或印刷后的基材兩面分別引導至EB輻照單元的輻照區，并使基材的正反兩面呈左右分布在輻照區以實現雙面輻照的傳導單元；

還包括與EB輻照單元相配合的氮氣保護單元；

所述氮氣保護單元被配置為包括相對設置在輻照區，且位于基材上方的兩根氮氣輸出通道；

各氮氣輸出通道可以分別設置在相配合的壓板上，壓板的長度與輻照區的一側以及基材的橫向寬度相配合，壓板上設置有供氮氣進入的主通道，以及向EB輻照單元上窗膜輸出冷卻氮氣的第一風道，以及向基材表面輸出氮氣的第二風道。

2.如權利要求1所述的EB雙面輻照系統，其特征在于，所述傳導單元被配置為包括：

相對設置在輻照區下方的第一引導輥、第二引導輥；

與第一引導輥的輸入側相配合，以將從第一涂布或印刷單元輸出的單面涂布或印刷基材輸送至電子束輻照區的多個第一傳導輥；

與第一引導輥的輸出側相配合，以將完成單面輻照的基材輸出至第二涂布或印刷單元的多個第二傳導輥；

與第二引導輥的輸入側相配合，以將從第二涂布或印刷單元輸出的雙面涂布或印刷基材輸送至電子束輻照區的多個第三傳導輥；

與第二引導輥的輸出側相配合，以將完成雙面輻照的基材輸出至收卷單元的多個第四傳導輥；

其中，各所述引導輥的直徑被配置為大于各傳導輥的直徑，所述第一傳導輥與第二傳導輥、第三傳導輥與第四傳導輥在空間上錯開設置。

3.如權利要求1所述的EB雙面輻照系統，其特征在于，所述第一涂布單元、第二涂布單元均包括：

與各涂布單元相配合的第一涂布輥、第二涂布輥；

以及設置在第一涂布輥、第二涂布輥上方的第一限定輥、第二限定輥；

其中，所述傳導單元分為第一傳導單元、第二傳導單元；

所述放卷單元、第一涂布或印刷單元、所述第一傳導單元、第二涂布或印刷單元、第二傳導單元、收卷單元之間通過多個牽引輥實現連接，并將傳遞中的基材張緊。

4.一種應用如權利要求1-3任一項所述EB雙面輻照系統的方法，其特征在于，包括：相對設置的第一引導輥、第二引導輥，在各涂布或印刷單元、傳導輥的作用下，使基材的涂布或印刷面能呈左右分布在輻照區，構成左右獨立輻照的模式，實現對基材的雙面輻照。