[發(fā)明專利]表面處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010553842.5
• 申請(qǐng)日: 2020-06-17
• 公開（公告）號(hào): CN112126960B
• 公開（公告）日: 2021-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 稻吉榮;石榑文昭;佐藤洋志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社愛發(fā)科;日本愛發(fā)科泰克能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C25D11/04
• 分類號(hào): C25D11/04;C25D11/16;C25D11/24;C23F1/00
• 代理公司: 上海和躍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31239
• 代理人: 尹洪波

提供一種能夠抑制在構(gòu)件的表面沉積的成膜物從構(gòu)件脫離的表面處理方法。表面處理方法包括：通過(guò)噴砂處理使構(gòu)件(10)的金屬制的表面(10F)粗糙化；通過(guò)陽(yáng)極氧化而在已粗糙化的表面(10F)形成多孔質(zhì)的氧化皮膜；以及利用蝕刻液至少對(duì)氧化皮膜進(jìn)行蝕刻。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及表面處理方法。

背景技術(shù)

濺射裝置、蝕刻裝置以及灰化裝置等各種真空處理裝置由具有金屬制表面的多個(gè)構(gòu)件構(gòu)成。構(gòu)成真空處理裝置的構(gòu)件包括：將在真空處理裝置中針對(duì)處理對(duì)象進(jìn)行處理的處理空間分區(qū)的構(gòu)件、及配置于處理空間內(nèi)的其他各種各樣的構(gòu)件。在這些構(gòu)件上由于附著伴隨處理空間內(nèi)的處理而產(chǎn)生的成膜物質(zhì)，從而成膜物沉積。從構(gòu)件脫離的成膜物成為微粒，有可能由于附著于處理對(duì)象、構(gòu)件而使處理對(duì)象污染。因此，例如在濺射裝置具備的防附著板的表面實(shí)施噴砂處理和噴鍍(例如參照專利文獻(xiàn)1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2012-224921號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

但是，關(guān)于針對(duì)適用于真空處理裝置的構(gòu)件的表面的表面處理，在抑制在那些構(gòu)件的表面沉積的成膜物脫離的觀點(diǎn)上，還留有研討的余地。

本發(fā)明以提供能夠抑制在構(gòu)件的表面沉積的成膜物從構(gòu)件脫離的表面處理方法為目的。

用于解決課題的方案

一方式的表面處理方法包括：通過(guò)噴砂處理使構(gòu)件的金屬制的表面粗糙化；通過(guò)陽(yáng)極氧化在已粗糙化的所述表面形成多孔質(zhì)的氧化皮膜；以及利用蝕刻液至少對(duì)所述氧化皮膜進(jìn)行蝕刻。

根據(jù)該方法，通過(guò)噴砂處理使表面粗糙化，且形成于粗糙化后的表面上的氧化皮膜被蝕刻，從而能夠提高表面的表面粗糙度，且能夠清潔表面。由此，沉積于表面的成膜物難以從表面脫離。

在上述表面處理方法中也可以為，形成所述氧化皮膜包括：形成具有1μm以上20μm以下的厚度的所述氧化皮膜。根據(jù)該構(gòu)成，通過(guò)噴砂處理而打入表面的介質(zhì)及由介質(zhì)引起的污垢包含于氧化皮膜中的可靠性提高。由此，通過(guò)對(duì)氧化皮膜進(jìn)行蝕刻，介質(zhì)及污垢雙方從表面被除掉的可靠性提高。

在上述表面處理方法也可以為，至少對(duì)所述氧化皮膜進(jìn)行蝕刻包括：在所述氧化皮膜的厚度方向上，以蝕刻量多于所述氧化皮膜的厚度的方式進(jìn)行蝕刻。

根據(jù)該方法，形成于表面的氧化皮膜可靠地被除掉，因此伴隨氧化皮膜的生長(zhǎng)，攝入氧化皮膜中的介質(zhì)及由介質(zhì)引起的污垢也從表面可靠地被除掉。由此，表面被清潔，結(jié)果是，可更加抑制沉積于表面的成膜物脫離。

在上述表面處理方法也可以為，通過(guò)形成所述氧化皮膜及至少對(duì)所述氧化皮膜進(jìn)行蝕刻，從而形成具有比通過(guò)所述噴砂處理而粗糙化的所述表面的算術(shù)平均粗糙度高的算術(shù)平均粗糙度的所述表面，所述算術(shù)平均粗糙度是由JIS B 0601：2013規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度。

根據(jù)該方法，可得到具有比噴砂處理后進(jìn)一步高的算術(shù)平均粗糙度Ra的表面，據(jù)此，形成于表面的成膜物中的應(yīng)力更加被緩和。結(jié)果是，可更加抑制沉積于表面的成膜物從表面脫離。

在上述表面處理方法中也可以為，所述表面由鋁或者鋁合金中的任一種形成。根據(jù)該構(gòu)成，因?yàn)楸砻婧袖X，所以形成于表面的氧化皮膜是鋁的氧化物。鋁的氧化物因?yàn)楫吜?彼德沃爾斯比為1以上2以下，所以與具有小于1或者大于2的畢林-彼德沃爾斯比的氧化物相比，更致密的膜形成于表面。由此，氧化皮膜的形狀容易形成為追隨表面具有的形狀。故此，氧化皮膜因?yàn)榫哂心M表面具有的凹凸形狀的形狀，所以即使對(duì)氧化皮膜進(jìn)行蝕刻，表面的表面粗糙度也不易比通過(guò)噴砂處理而粗糙化后的表面的表面粗糙度減小。由此，可得到具有由噴砂處理引起的高表面粗糙度的表面。結(jié)果是，可更加抑制沉積于表面的成膜物脫離。

附圖說(shuō)明