[發明專利]一種提高金屬產品蝕刻質量的方法

有效

• 申請號: 202010553376.0
• 申請日: 2020-06-17
• 公開（公告）號: CN111607794B
• 公開（公告）日: 2022-05-27
• 發明（設計）人: 任忠平;尹國欽;陳紹文
• 申請（專利權）人: 寧波福至新材料有限公司
• 主分類號: C23F1/28
• 分類號: C23F1/28
• 代理公司: 上海泰能知識產權代理事務所(普通合伙) 31233
• 代理人: 魏峯

本發明涉及一種提高金屬產品蝕刻質量的方法，包括：在常溫下，將涂覆感光材料進行曝光處理的預蝕刻片，然后先在三氯化鐵蝕刻液中蝕刻預蝕刻片厚度的三分之一，再在氫氟酸蝕刻液中蝕刻余下的預蝕刻片，即可。本發明在常溫下先后僅采用三氯化鐵和氫氟酸蝕刻，不需要額外加熱，也不需要加入其它種類的蝕刻液，成本低，并且可以有效提高蝕刻質量，具有良好的應用前景。

技術領域

本發明屬于金屬蝕刻領域，特別涉及一種提高金屬產品蝕刻質量的方法。

背景技術

金屬蝕刻也稱光化學金屬蝕刻，其是指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻金屬區域的保護膜去除，將蝕刻金屬接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的目的，形成設計成型的效果。該技術最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量儀器鑲板，銘牌及傳統加工法難以加工之薄形工件等的加工。經過不斷改良和工藝設備發展，亦可以用于航空、機械、化學工業中電子薄片零件精密金屬蝕刻產品的加工，特別在半導體制程上，金屬蝕刻更是不可或缺的技術。

對加工后的蝕刻金屬的質量，通常會采用專用儀器進行檢測，蝕刻金屬通常最常見的質量問題是側蝕質量，側蝕質量往往達不到0.01mm以下，尤其厚度大于0.3mm的蝕刻片，側面呈梯形。蝕刻過程中蝕刻液的蒸發損失，均為目前蝕刻過程中難解決的技術難題。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種提高金屬產品蝕刻質量的方法，該方法可有效解決蝕刻金屬通常最常見的側蝕質量問題。

本發明提供了一種提高金屬產品蝕刻質量的方法，包括：

在常溫下，將涂覆感光材料進行曝光處理的預蝕刻片，然后先在三氯化鐵蝕刻液中蝕刻預蝕刻片厚度的三分之一，再在氫氟酸蝕刻液中蝕刻余下的預蝕刻片，即可。

所述預蝕刻片的材料為不銹鋼。

所述預蝕刻片的厚度大于0.3mm。

所述三氯化鐵蝕刻液的濃度為38％-45％。

所述氫氟酸蝕刻液的濃度為10％-15％。

通常，蝕刻過程中放出的熱量越大，越利于反應的三氯化鐵蝕刻液氧化劑，越利于蝕刻片側蝕，如果只用三氯化鐵蝕刻液，開始溫度就高，越蝕刻溫度越高，到最后溫度更高，更加大側蝕。因為溫度越高越利于反應。以氫氟酸蝕刻液作氧化劑，在蝕刻過程中放出的熱，比三氯化鐵蝕刻液作氧化劑在蝕刻過程中放出的熱少，溫度越高，越不利于反應。由于氫氟酸蝕刻液作氧化劑時放熱較少，使整個過程處于均溫狀態，不利于側蝕。而且溫度不是越來越高，也減少蝕刻液的蒸發損失。如果只用氫氟酸蝕刻液，蝕刻時間長，容易加大側蝕。為此，采用兩步蝕刻方法，可更好的提高蝕刻產品質量。

附圖說明

圖1為實施例1的刻蝕效果。

有益效果

本發明在常溫下先后僅采用三氯化鐵和氫氟酸蝕刻，不需要額外加熱，也不需要加入其它種類的蝕刻液，成本低，可有效解決蝕刻金屬通常最常見的測蝕質量問題，側蝕質量往往達不到0.01mm以下，尤其大厚度的蝕刻片，側面呈梯形。也可減少蝕刻過程中蝕刻液的蒸發損失技術難題，可以有效提高蝕刻質量，具有良好的應用前景。

具體實施方式

下面結合具體實施例，進一步闡述本發明。應理解，這些實施例僅用于說明本發明而不用于限制本發明的范圍。此外應理解，在閱讀了本發明講授的內容之后，本領域技術人員可以對本發明作各種改動或修改，這些等價形式同樣落于本申請所附權利要求書所限定的范圍。

實施例1

在常溫下，將涂覆感光材料進行曝光處理的預蝕刻片，然后先在三氯化鐵蝕刻液(濃度為40％)中蝕刻預蝕刻片厚度的三分之一，再在氫氟酸蝕刻液中(濃度為10％)蝕刻余下的預蝕刻片，即可。刻蝕效果見圖1。