[發(fā)明專利]基于模型系統(tǒng)的復雜電子裝備失效風險傳遞關(guān)系分析方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010551994.1
• 申請日: 2020-06-17
• 公開（公告）號: CN111709139B
• 公開（公告）日: 2023-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宋悅剛;鄧林;秦希佳;江浩;王步冉;王萌;彭祥飛
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團公司第二十九研究所
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20;G06F119/02
• 代理公司: 成都九鼎天元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214
• 代理人: 賈年龍

1.一種基于模型系統(tǒng)的復雜電子裝備失效風險傳遞關(guān)系分析方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、建立復雜電子裝備的系統(tǒng)工程模型；

S2、建立復雜電子裝備各層級組成單元的失效模式；

S3、提取系統(tǒng)工程模型的多類視圖，并將多類視圖自動轉(zhuǎn)換為各層級組成單元的失效風險傳遞關(guān)系分析模型；

提取的視圖只采用DoDAF建模框架中的SV-1系統(tǒng)邏輯視圖、SV-4功能視圖、SV-10B工作模式視圖，或只采用HarmonySE建模框架中的塊定義圖、里面模塊圖、狀態(tài)機圖；

S4、設(shè)置裝備失效監(jiān)控點，并依次激活下層組成單元的失效模式；

S5、調(diào)用失效風險傳遞關(guān)系自動分析算法，分析失效風險傳遞關(guān)系分析模型，自動分析并構(gòu)建失效風險傳遞關(guān)系，針對激活的下層組成單元失效模式，依次分析監(jiān)控點的性能指標，并與正常模式下的性能指標進行對比分析從而形成失效風險傳遞關(guān)系。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于模型系統(tǒng)的復雜電子裝備失效風險傳遞關(guān)系分析方法，其特征在于，所述步驟S1中系統(tǒng)工程模型的構(gòu)建方法為：通過SysML系統(tǒng)建模語言和DoDAF建模框架/HarmonySE建模框架進行建模。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于模型系統(tǒng)的復雜電子裝備失效風險傳遞關(guān)系分析方法，其特征在于，所述DoDAF建模框架包括SV-1系統(tǒng)邏輯視圖、SV-4功能視圖、SV-10B工作模式視圖和SV-10C活動視圖；所述HarmonySE建模框架包括用例圖、活動圖、狀態(tài)機圖、塊定義圖和里面模塊圖。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于模型系統(tǒng)的復雜電子裝備失效風險傳遞關(guān)系分析方法，其特征在于，所述多類視圖包括系統(tǒng)功能視圖、系統(tǒng)邏輯視圖、系統(tǒng)工作模式視圖和系統(tǒng)活動視圖；

所述系統(tǒng)功能視圖為DoDAF框架的SV-4視圖，或者HarmonySE建模框架的用例圖；

所述系統(tǒng)邏輯視圖為DoDAF框架的SV-1視圖，或者HarmonySE建模框架的塊定義圖和里面模塊圖；

所述系統(tǒng)工作模式視圖為DoDAF框架的SV-10B視圖，或者HarmonySE建模框架的狀態(tài)機圖；

所述系統(tǒng)活動視圖為DoDAF框架的SV-10C視圖，或者HarmonySE建模框架的活動圖。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于模型系統(tǒng)的復雜電子裝備失效風險傳遞關(guān)系分析方法，其特征在于，所述步驟S3的具體步驟為：提取系統(tǒng)工程模型的SV-4功能視圖、SV-1邏輯視圖和SV-10B工作模式視圖，對SV-4功能視圖、SV-1邏輯視圖和SV-10B工作模式視圖分析系統(tǒng)功能實現(xiàn)過程和組成單元間的信號交互關(guān)系，構(gòu)建形成各層級組成單元的失效風險傳遞關(guān)系分析模型。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于模型系統(tǒng)的復雜電子裝備失效風險傳遞關(guān)系分析方法，其特征在于，所述SV-4功能視圖包含與失效模式相關(guān)的功能和性能指標，所述SV-1邏輯視圖包含與失效模式相關(guān)的組成單元和端口，所述SV-10B工作模式視圖包含該模式下設(shè)備的信號流向。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于模型系統(tǒng)的復雜電子裝備失效風險傳遞關(guān)系分析方法，其特征在于，所述步驟S4中的裝備失效監(jiān)控點用于監(jiān)控下層組件的失效模式發(fā)生后，傳遞到上層設(shè)備后導致的失效模式被觸發(fā)。