[發明專利]一種制備大面積鈣鈦礦薄膜的裝置和方法有效
| 申請號: | 202010551482.5 | 申請日: | 2020-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN111710783B | 公開(公告)日: | 2023-01-17 |
| 發明(設計)人: | 袁寧一;王書博;丁建寧 | 申請(專利權)人: | 常州大學 |
| 主分類號: | H10K71/12 | 分類號: | H10K71/12;H10K71/40;H10K30/10 |
| 代理公司: | 常州市英諾創信專利代理事務所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 謝新萍 |
| 地址: | 213164 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 大面積 鈣鈦礦 薄膜 裝置 方法 | ||
1.一種制備大面積鈣鈦礦薄膜的裝置,其特征在于,所述裝置包括真空腔體(1)以及連接到真空腔體頂部中間的快速抽真空的泵組(2),真空腔體(1)內上部設有帶小孔的金屬平面電極(3),金屬平面電極(3)通過導線連接射頻電源(4),金屬平面電極(3)后平行排列紅外石英加熱管(5),紅外石英加熱管(5)通過隔離開關(6)連接到供電電源,金屬平面電極(3)和基底(7)中間還有用于降低等離子轟擊效果的金屬網(8),真空腔體(1)還帶有一個可以補充惰性氣體用于控制壓強恒定的微量控制閥門(9);
其中,快速抽真空是指真空腔體壓強下降到50-60Pa的時間不高于15秒。
2.根據權利要求1所述的制備大面積鈣鈦礦薄膜的裝置,其特征在于,快速抽真空的泵組(2)為級聯泵,或者多組并聯。
3.根據權利要求1所述的制備大面積鈣鈦礦薄膜的裝置,其特征在于,金屬平面電極(3)上的小孔,正對著紅外石英加熱管(5)的小孔直徑為4-5mm,介于紅外石英加熱管之間的小孔直徑為8-10mm,小孔間距為4-5mm。
4.根據權利要求1所述的制備大面積鈣鈦礦薄膜的裝置,其特征在于,金屬平面電極(3)與基底(7)之間設置有金屬網,金屬絲直徑為0 .1mm,金屬網格尺寸為1平方厘米,金屬網接地或者接一個可以提供偏壓的電源。
5.一種制備大面積鈣鈦礦薄膜的方法,其特征在于,所述方法步驟如下:
(1)鈣鈦礦濕膜進入真空腔體;
(2)開啟抽真空泵組,腔體壓強快速降低到50-60Pa,將濕膜中的溶劑大部分揮發;
所述腔體壓強下降到50-60Pa的時間不高于15秒;
(3)開啟微量控制閥門補充惰性氣體,維持腔體壓強;
(4)開啟射頻電源,形成等離子體,促進薄膜結晶;
(5)腔體放氣,然后開啟紅外輻射1-5分鐘進一步促進鈣鈦礦薄膜的生成;
(6)關閉紅外輻射,鈣鈦礦薄膜移出腔體。
6.根據權利要求5所述的制備大面積鈣鈦礦薄膜的方法,其特征在于,步驟(3)所述開啟微量控制閥門補充惰性氣體,將系統真空壓強穩定到5-10Pa。
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