[發明專利]一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體及其合成方法

在審

• 申請號: 202010550853.8
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN111675616A
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發明（設計）人: 傅志偉;賀寶元;邵嚴亮;毛國平;余文清;薛富奎;劉司飛
• 申請（專利權）人: 徐州博康信息化學品有限公司
• 主分類號: C07C69/54
• 分類號: C07C69/54;C07C67/08;C07C29/17;C07C35/34
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1.一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體，其特征在于，所述樹脂單體的結構式如下：

其中R為氫或者甲基。

2.一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體的合成方法，其特征在于，所述合成方法的反應路線如下：

R為氫或者甲基，合成步驟如下：

第一步氫化反應，在催化劑a催化下，環氧澤瀉烯中的不飽和碳碳雙鍵與氫氣進行加成反應；

第二步酯化反應，氫化后的環氧澤瀉烯與另一反應底物經酯化反應后生成所述樹脂單體。

3.根據權利要求2所述的一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體的合成方法，其特征在于，所述氫化反應的催化劑a為鈀炭。

4.根據權利要求2所述的一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體的合成方法，其特征在于，所述氫化反應的溶劑選自甲醇、乙醇、四氫呋喃中的一種。

5.根據權利要求2所述的一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體的合成方法，其特征在于，R為氫時，所述酯化反應中的另一個反應底物為丙烯酸、丙烯酰氯或者丙烯酸酐，R為甲基時，所述酯化反應中的另一個反應底物為甲基丙烯酸、甲基丙烯酰氯或者甲基丙烯酸酐。

6.根據權利要求5所述的一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體的合成方法，其特征在于，酯化反應中的另一反應底物為丙烯酸或甲基丙烯酸時，反應需要添加對甲苯磺酸、硫酸、二氯亞砜、和鹽酸其中的一種作為催化劑，反應溶劑選自甲苯或者二氯甲烷。

7.根據權利要求5所述的一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體的合成方法，其特征在于，酯化反應中的另一反應底物為丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯時，反應在堿性條件下進行，在4-二甲氨基吡啶催化下，丙烯酰氯或甲基丙烯酰氯與氫化后的環氧澤瀉烯反應生成所述樹脂單體。

8.根據權利要求7所述的一種由環氧澤瀉烯合成的可降解型光刻膠樹脂單體的合成方法，其特征在于，第二步酯化反應，為保證反應的堿性條件，向反應體系中添加三乙胺或吡啶的其中一種。