[發(fā)明專利]一種連續(xù)混凝沉降與分離器和連續(xù)混凝沉降裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010549954.3
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN113800612A
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發(fā)明（設計）人: 張磊;高晉;肖小龍;張千昌;楊燕平;黃文升;咼如地;姚明修;趙桂龍;李政;武飛;王霞
• 申請（專利權(quán)）人: 中石化石油工程技術(shù)服務有限公司;中石化石油工程設計有限公司
• 主分類號: C02F1/52
• 分類號: C02F1/52;C02F103/10
• 代理公司: 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11228
• 代理人: 牟昌兵

1.一種連續(xù)混凝沉降與分離器，其特征在于，包括：

多個混凝沉降介質(zhì)，所述混凝沉降介質(zhì)沿流體的流動方向延伸，多個混凝沉降介質(zhì)之間同向重疊排列并具有預定間距，所述混凝沉降介質(zhì)與水平面具有預設傾斜角，所述流體包括懸浮物和水相；

其中，所述混凝沉降介質(zhì)包括上表面和下表面，其中，所述下表面具有沿所述流體的流動方向分布的多個混凝沉降區(qū)；

其中，所述混凝沉降介質(zhì)被設置為，使流體在流動方向上先后在各個所述混凝沉降區(qū)內(nèi)混凝反應，以使小顆粒在混凝沉降區(qū)內(nèi)形成較大的顆粒，所述較大的顆粒下沉到相鄰混凝沉降介質(zhì)的上表面并從頂部流向底部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)混凝沉降與分離器，其特征在于，所述混凝沉降區(qū)由設置在所述下表面的擋板分隔形成，所述擋板沿所述混凝沉降介質(zhì)的頂部向底部延伸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連續(xù)混凝沉降與分離器，其特征在于，所述上表面為光滑平面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連續(xù)混凝沉降與分離器，其特征在于，所述預定傾斜角為所述下表面與水平面的夾角，且所述夾角的大小為60°。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連續(xù)混凝沉降與分離器，其特征在于，所述混凝沉降介質(zhì)的下表面與相鄰的混凝沉降介質(zhì)的上表面之間的間距為L，所述混凝沉降區(qū)的深度為2/3L，以及所述混凝沉降區(qū)的寬度為1.5L。

6.一種連續(xù)混凝沉降裝置，其特征在于，包括：入口單元、整流單元、連續(xù)混凝沉降與分離器、懸浮物收集單元、出水擋板和出水單元，流體經(jīng)所述整流單元整流后流經(jīng)所述連續(xù)混凝沉降與分離器，其中，所述連續(xù)混凝沉降與分離器，包括：

多個混凝沉降介質(zhì)，所述混凝沉降介質(zhì)沿流體的流動方向延伸，多個混凝沉降介質(zhì)之間同向重疊排列并具有預定間距，所述混凝沉降介質(zhì)與水平面具有預設傾斜角，所述流體包括懸浮物和水相；

其中，所述混凝沉降介質(zhì)包括上表面和下表面，其中，所述下表面具有沿所述流體的流動方向分布的多個混凝沉降區(qū)；所述上表面的底部與所述懸浮物收集單元連通；

其中，所述混凝沉降介質(zhì)被設置為，使流體在流動方向上先后在各個所述混凝沉降區(qū)內(nèi)混凝反應，以使小顆粒在混凝沉降區(qū)內(nèi)形成較大的顆粒，所述較大的顆粒下沉到相鄰混凝沉降介質(zhì)的上表面并從其頂部流向底部，并進入所述懸浮物收集單元；以及水相經(jīng)所述出水單元排出。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的連續(xù)混凝沉降裝置，其特征在于，所述混凝沉降區(qū)由設置在所述下表面的擋板分隔形成，所述擋板沿所述混凝沉降介質(zhì)的頂部向底部延伸。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的連續(xù)混凝沉降裝置，其特征在于，所述上表面為光滑平面。

9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的連續(xù)混凝沉降裝置，其特征在于，所述預定傾斜角為所述下表面與水平面的夾角，且所述夾角的大小為60°。

10.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的連續(xù)混凝沉降裝置，其特征在于，所述混凝沉降介質(zhì)的下表面與相鄰的混凝沉降介質(zhì)的上表面之間的間距為L，所述混凝沉降區(qū)的深度為2/3L，以及所述混凝沉降區(qū)的寬度為1.5L。