[發(fā)明專利]指紋識別裝置及其形成方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010549548.7
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN113807149A
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 凌嚴(yán);朱虹
• 申請（專利權(quán)）人: 上海籮箕技術(shù)有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 吳敏

1.一種指紋識別裝置，其特征在于，包括：

感光層，所述感光層表面具有橫向的像素區(qū)域；

光闌層，位于所述感光層上，所述光闌層具有多個光闌孔；

凸透鏡組，位于所述光闌層上且朝向所述感光層的投影位于所述像素區(qū)域內(nèi)，所述凸透鏡組包括多個凸透鏡，所述凸透鏡與所述光闌孔相對應(yīng)，所述凸透鏡底面中心與對應(yīng)的所述光闌孔中心構(gòu)成子視場中心軸，屬于同一所述像素區(qū)域的任意兩個所述子視場中心軸至少在一個豎向的平面的投影相交，且相交點位于所述凸透鏡組上方。

2.如權(quán)利要求1所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述凸透鏡與對應(yīng)的所述光闌孔構(gòu)成聚焦準(zhǔn)直單元，屬于同一所述像素區(qū)域的任意兩個所述聚焦準(zhǔn)直單元的子視場相重疊，所述聚焦準(zhǔn)直單元的子視場邊界與可穿過所述光闌孔的具有最大傾斜角的入射光線的路徑相重合，傾斜角為入射光線與所述子視場中心軸間的夾角。

3.如權(quán)利要求2所述的指紋識別裝置，其特征在于，還包括：顯示面板，所述顯示面板位于所述凸透鏡組上方。

4.如權(quán)利要求3所述的指紋識別裝置，其特征在于，在所述顯示面板頂部表面上，屬于同一所述像素區(qū)域的任意兩個所述聚焦準(zhǔn)直單元的子視場重疊面積與其中單個所述聚焦準(zhǔn)直單元的子視場面積的比值等于或者大于50％。

5.如權(quán)利要求4所述的指紋識別裝置，其特征在于，在所述顯示面板頂部表面上，屬于同一所述像素區(qū)域的任意兩個所述聚焦準(zhǔn)直單元的子視場重疊面積與其中單個所述聚焦準(zhǔn)直單元的子視場面積的比值等于或者大于90％。

6.如權(quán)利要求1至5任一項所述的指紋識別裝置，其特征在于，屬于同一像素區(qū)域的全部所述子視場中心軸相交于同一點。

7.如權(quán)利要求3所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述顯示面板與所述凸透鏡組間具有空氣間隙。

8.如權(quán)利要求7所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述空氣間隙厚度為0.1mm～0.6mm。

9.如權(quán)利要求3所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述顯示面板包括：

面板本體；

保護(hù)玻璃，所述保護(hù)玻璃覆蓋所述面板本體頂部表面。

10.如權(quán)利要求1所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述凸透鏡大小相同，相鄰所述凸透鏡間距相等。

11.如權(quán)利要求2所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述光闌層的數(shù)量為一層或者多層。

12.如權(quán)利要求11所述的指紋識別裝置，其特征在于，至少一層所述光闌層的所述光闌孔大小相同。

13.如權(quán)利要求12所述的指紋識別裝置，其特征在于，當(dāng)所述光闌層的數(shù)量為多層時，由上至下，所述光闌孔的孔徑逐漸增大。

14.如權(quán)利要求12所述的指紋識別裝置，其特征在于，當(dāng)所述光闌層的數(shù)量為多層時，由上至下，所述光闌孔的孔徑逐漸減小。

15.如權(quán)利要求11所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述感光層表面具有多個像素區(qū)域，所述凸透鏡組與所述像素區(qū)域一一對應(yīng)。

16.如權(quán)利要求15所述的指紋識別裝置，其特征在于，在單個所述像素區(qū)域的至少一層所述光闌層內(nèi)，相鄰所述光闌孔間距具有差異。

17.如權(quán)利要求16所述的指紋識別裝置，其特征在于，在單個像素區(qū)域內(nèi)，全部所述聚焦準(zhǔn)直單元的子視場構(gòu)成單元視場；在單個所述像素區(qū)域的至少一層所述光闌層內(nèi)，距所述單元視場中心越遠(yuǎn)，相鄰所述光闌孔間距越大。