[發明專利]陣列基板及其制作方法和顯示裝置

有效

• 申請號: 202010548856.8
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN111650771B
• 公開（公告）日: 2023-01-10
• 發明（設計）人: 王國強;王久石;李柳青
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G03F7/00
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，所述陣列基板具有顯示區和綁定區，所述陣列基板的制作方法包括：

在襯底基板母板上制作金屬層，所述金屬層位于所述綁定區以外的區域，且至少覆蓋所述顯示區；

在所述襯底基板母板上形成透明圖案，所述透明圖案至少部分地覆蓋所述金屬層以外的區域，且至少位于所述綁定區；所述透明圖案靠近所述襯底基板母板的表面與所述金屬層靠近所述襯底基板母板的表面平齊，且所述透明圖案的厚度小于或等于所述金屬層的厚度；所述透明圖案用于將所述襯底基板母板限定的區域中未被所述金屬層覆蓋的區域全部覆蓋或部分覆蓋，以降低所述襯底基板母板上所述金屬層的去除區域內凹陷的面積；所述金屬層的去除區域為所述金屬層以外的區域；

在形成有所述金屬層和所述透明圖案的襯底基板母板上，涂覆光刻膠；所述光刻膠覆蓋所述金屬層和所述透明圖案；

利用壓印模板對所述光刻膠進行壓印，在灰化后形成光刻膠圖案層，所述光刻膠圖案層包括平行設置的多條膠線，相鄰兩條膠線之間具有間隙；

對所述金屬層中對應所述間隙的部分進行刻蝕，以形成金屬線柵偏振片。

2.根據權利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述襯底基板母板上形成透明圖案之后，所述陣列基板的制作方法還包括：

形成覆蓋所述透明圖案和所述金屬層的無機材料薄膜；

所述在形成有所述金屬層和所述透明圖案的襯底基板母板上，涂覆光刻膠包括：在所述無機材料薄膜上涂覆光刻膠；

在形成光刻膠圖案層之后，在所述對所述金屬層中對應所述間隙的部分進行刻蝕之前，所述陣列基板的制作方法還包括：對所述無機材料薄膜中對應所述間隙的部分進行刻蝕，以形成硬掩膜。

3.一種陣列基板，其特征在于，由權利要求1或2所述的陣列基板的制作方法制成；

所述陣列基板具有顯示區和綁定區，所述陣列基板包括：

襯底基板；

設置在所述襯底基板上的金屬線柵偏振片，所述金屬線柵偏振片位于所述綁定區以外的區域，且至少覆蓋所述顯示區；

設置在所述襯底基板上的透明圖案，所述透明圖案至少部分地覆蓋所述金屬線柵偏振片以外的區域，且所述透明圖案靠近所述襯底基板的表面與所述金屬線柵偏振片靠近所述襯底基板的表面平齊，且所述透明圖案的厚度小于或等于所述金屬線柵偏振片的厚度。

4.根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，還包括：

硬掩膜，所述硬掩膜位于所述透明圖案和所述金屬線柵偏振片遠離所述襯底基板的一側，且所述硬掩膜與所述透明圖案和所述金屬線柵偏振片接觸。

5.根據權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，

所述硬掩膜的材料為氧化硅或者氮化硅。

6.根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，還包括：

像素電路層，所述像素電路層設置在所述襯底基板上；

所述金屬線柵偏振片設置在所述襯底基板遠離所述像素電路層的一側。

7.根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還具有封裝區；

所述金屬線柵偏振片位于所述顯示區和所述封裝區，所述透明圖案位于所述綁定區。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括：

相對設置的第一基板和第二基板；

位于所述第一基板和所述第二基板之間的第一液晶層；

位于所述第二基板遠離所述第一基板一側的第三基板；

以及位于所述第二基板和所述第三基板之間的第二液晶層；

其中，所述第二基板和所述第三基板中的至少一個為權利要求3～7任一項中所述的陣列基板。

9.根據權利要求8所述的顯示裝置，其特征在于，

所述第二基板和所述第三基板均為所述陣列基板。

10.根據權利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，

所述第二基板中的金屬線柵偏振片的透振方向和所述第三基板中的金屬線柵偏振片的透振方向相互垂直。