[發明專利]一種變偏移距VSP彎線校正處理方法和裝置

有效

• 申請號: 202010548726.4
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN111650645B
• 公開（公告）日: 2022-05-20
• 發明（設計）人: 李建國;吳俊軍;王熙明;夏淑君;余剛
• 申請（專利權）人: 中油奧博（成都）科技有限公司
• 主分類號: G01V1/40
• 分類號: G01V1/40;G01V1/30;G01V1/36
• 代理公司: 成都方圓聿聯專利代理事務所(普通合伙) 51241
• 代理人: 李鵬

1.一種變偏移距VSP彎線校正處理方法，其特征在于：包括以下步驟：

步驟S1.選取變偏移距VSP數據中的零偏移距VSP數據，拾取其初至，用其計算層速度；

步驟S2.利用步驟S1得到層速度，射線追蹤計算雙程時，并對變偏移距VSP共炮記錄做動校正；

步驟S3.假定一條過井口的直線，計算炮點到該直線的投影坐標，將投影坐標定義為炮點的新坐標；

所述步驟S3包括以下子步驟：

S301.給定直炮線方位角θ；

S302.計算炮點S_i(x,y)相對于井口的方位角θ_i：

其中，wx、wy是井口的橫坐標、縱坐標，θ_i是第i炮的方位角，S_ix、S_iy是炮點的橫坐標、縱坐標；

S303.計算炮點S_i(x,y)到方位角θ的投影坐標

其中，offset_S_i是第i炮的偏移距，wx、wy是井口的橫坐標、縱坐標，S_ix、S_iy是炮點的橫坐標、縱坐標；

其中，offset_S_i是第i炮的偏移距，wx、wy是井口的橫坐標、縱坐標，θ_i是第i炮的方位角，θ是直炮線方位角，是投影坐標；

S304.循環步驟S202～S203，計算所有炮點的投影坐標；

步驟S4.利用步驟S3得到的炮點新坐標、步驟S1得到的層速度，射線追蹤計算雙程時，并對步驟S2的變偏移距VSP共炮動校正記錄做反動校正。

2.根據權利要求1所述的一種變偏移距VSP彎線校正處理方法，其特征在于：所述步驟S1中計算得到的層速度V_p為：

V_p＝{V_p,1,V_p,2,...,V_p,N}；

其中V_p,i為第i層的縱波速度，i＝1,2，…,N,且N為零偏移距VSP數據的總層數，每層對應一個檢波器；

計算V_p,i的方式如下：

V_p,i＝(H_i-H_i-1)/(t_p,vi-t_p,vi-1)；

其中，H_i是第i個檢波器深度，t_p,i是第i個縱波初至，Offset是零偏移距VSP炮點偏離井口的距離；H_i-1是第i-1個檢波器深度，H_i是第i個檢波器深度，t_p,vi-1是第i-1個檢波器的縱波垂直單程時，t_p,vi是第i個檢波器的縱波垂直單程時，V_p,i是第i層的縱波速度。

3.根據權利要求1所述的一種變偏移距VSP彎線校正處理方法，其特征在于：所述步驟S2包括以下子步驟：

S201.讀取第i炮的炮點坐標S_i(x,y)；

S202.讀取第i炮第j檢波點坐標R_j(x,y)；

S203.用步驟S1得到的層速度，射線追蹤計算炮點i到檢波點j的射線走時t_ray及其對應的雙程時t₂；

S204.將t_ray對應的采樣點映射到t₂，即實現了第i炮第j檢波點的動校正；

S205.循環執行步驟S202～S204，實現第i炮所有檢波點的動校正；

S206.循環執行步驟S201～S205，實現所有炮的動校正。