[發明專利]一種用于航天器熱試驗的薄膜型加熱器的布局方法

有效

• 申請號: 202010547824.6
• 申請日: 2020-06-16
• 公開（公告）號: CN111661369B
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發明（設計）人: 王冬梅;唐賴穎;郭濤;樊友高;張潔;李新宇;劉孟周;張誠;張爽;薛峰;樊星
• 申請（專利權）人: 北京衛星環境工程研究所
• 主分類號: B64G7/00
• 分類號: B64G7/00
• 代理公司: 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435
• 代理人: 郭棟梁

1.一種用于航天器熱試驗的薄膜型加熱器的布局方法，其特征在于， 包括：

在布局面上劃分若干個外熱流區域；

獲取各所述外熱流區域的布局區域，所述布局區域用于設置所述薄膜型加熱器；

根據所述薄膜型加熱器的電阻值，從大到小依次選擇所述薄膜型加熱器；

從所述布局區域的邊緣向所述布局區域的中心位置依次設置所述薄膜型加熱器。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述在布局面上劃分若干個外熱流區域之前，所述方法還包括：

創建若干個不同規格的所述薄膜型加熱器模型，其中，所述薄膜型加熱器模型包括矩形薄膜型加熱器模型和扇形薄膜型加熱器模型，

其中，Z軸垂直于所述矩形薄膜型加熱器模型和所述扇形薄膜型加熱器模型的表面。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，

對所述薄膜型加熱器模型賦予電阻，

其中，所述電阻的大小與所述薄膜型加熱器的截面面積對應，大電阻賦予所述截面面積大的所述薄膜型加熱器，小電阻賦予所述截面面積小的所述薄膜型加熱器。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，

對所述薄膜型加熱器模型設置參數，所述參數包括所述薄膜型加熱器類型、電阻值及編號。

5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，

定義矩形加熱器族表，所述矩形加熱器族表包括各種所述矩形薄膜型加熱器；

定義扇形加熱器族表，所述扇形加熱器族表包括各種所述扇形薄膜型加熱器。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述布局面上劃分若干個外熱流區域之前，所述方法還包括：

創建航天器模型，在所述航天器模型上確定布局面，其中，Z軸法向垂直于所述布局面。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述外熱流區域具有一個封閉的第一外輪廓線和若干個封閉的第一內輪廓線，

所述第一外輪廓線向所述第一內輪廓線方向偏移距離d，形成第二外輪廓線；所述第一內輪廓線向所述第一外輪廓線方向偏移距離d，形成第二內輪廓線，所述第二外輪廓線與若干個所述第二內輪廓線之間的區域為所述布局區域，

或者所述外熱流區域具有一個封閉的第一外輪廓線，所述第一外輪廓線向所述第一外輪廓線內部位置偏移距離d，形成第二外輪廓線，所述第二外輪廓線內的區域為所述布局區域。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述從所述布局區域的邊緣向所述布局區域的中心位置依次設置所述薄膜型加熱器之后，所述方法還包括：

設計所述外熱流區域的加熱回路。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

創建所述外熱流區域的所述加熱回路模型。