[發(fā)明專利]量測(cè)裝置及量測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010545961.6 | 申請(qǐng)日： | 2020-06-16 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN111805301B | 公開(kāi)（公告）日： | 2022-06-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 孫正一;陳昶升;楊勇;曹偉濤;謝松臻 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 深圳市裕展精密科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B23Q17/00 | 分類號(hào)： | B23Q17/00 |
| 代理公司： | 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人： | 陳敬華 |
| 地址： | 518109 廣東省深圳市觀瀾富士康鴻觀科技園B區(qū)廠*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 裝置 方法 | ||
1.一種量測(cè)裝置，包括：
通信器，用于：
接收來(lái)自第一量測(cè)機(jī)檢測(cè)工件形成的第一檢測(cè)集；
接收來(lái)自第二量測(cè)機(jī)檢測(cè)所述工件形成的第二檢測(cè)集，所述第二量測(cè)機(jī)的精度高于所述第一量測(cè)機(jī)的精度；
處理器，耦接所述通信器，用于：
對(duì)所述第一檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗；
根據(jù)數(shù)據(jù)清洗后的所述第一檢測(cè)集與所述第二檢測(cè)集，形成校正值；
所述通信器進(jìn)一步用于：
將所述校正值反饋至所述第一量測(cè)機(jī)，以校正形成所述第一檢測(cè)集時(shí)的誤差。
2.如權(quán)利要求1所述的量測(cè)裝置，其中：
所述處理器，進(jìn)一步用于：
對(duì)所述第一檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗，以形成第一檢測(cè)值；
判斷所述第一檢測(cè)值處于預(yù)設(shè)閾值范圍外；
所述通信器，進(jìn)一步用于接收來(lái)自所述第一量測(cè)機(jī)檢測(cè)所述工件形成的第三檢測(cè)集；
對(duì)所述第三檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗，以形成第三檢測(cè)值；
判斷所述第三檢測(cè)值處于所述預(yù)設(shè)閾值范圍內(nèi)；
根據(jù)所述第三檢測(cè)集和第二檢測(cè)集，形成所述校正值。
3.如權(quán)利要求1所述的量測(cè)裝置，其中：
所述處理器，進(jìn)一步用于：
對(duì)所述第一檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗，以形成第一檢測(cè)值；
判斷所述第一檢測(cè)值處于預(yù)設(shè)閾值范圍外；
去除所述第一檢測(cè)集中處于所述預(yù)設(shè)閾值范圍外的部分，形成目標(biāo)檢測(cè)集；
對(duì)所述目標(biāo)檢測(cè)集進(jìn)行加權(quán)平均計(jì)算，以形成修正檢測(cè)值；
對(duì)所述第二檢測(cè)集進(jìn)行加權(quán)平均計(jì)算，以形成第二檢測(cè)值；
根據(jù)所述修正檢測(cè)值和所述第二檢測(cè)值，形成所述校正值。
4.如權(quán)利要求1所述的量測(cè)裝置，其中所述處理器，進(jìn)一步用于：
對(duì)所述第一檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗及歸一化處理，以形成第四檢測(cè)集；
根據(jù)所述第四檢測(cè)集與所述第二檢測(cè)集，形成所述校正值。
5.如權(quán)利要求4所述的量測(cè)裝置，其中所述處理器，進(jìn)一步用于：
根據(jù)所述第四檢測(cè)集的均值與所述第二檢測(cè)集的均值的差值，形成所述校正值。
6.一種量測(cè)方法，包括：
接收來(lái)自第一量測(cè)機(jī)檢測(cè)工件形成的第一檢測(cè)集；
接收來(lái)自第二量測(cè)機(jī)檢測(cè)所述工件形成的第二檢測(cè)集，所述第二量測(cè)機(jī)的精度高于所述第一量測(cè)機(jī)的精度；
對(duì)所述第一檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗；
根據(jù)數(shù)據(jù)清洗后的所述第一檢測(cè)集與所述第二檢測(cè)集，形成校正值；
將所述校正值反饋至所述第一量測(cè)機(jī)，以校正形成所述第一檢測(cè)集時(shí)的誤差。
7.如權(quán)利要求6所述的量測(cè)方法，其中形成所述校正值的步驟，包括：
對(duì)所述第一檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗，以形成第一檢測(cè)值；
判斷所述第一檢測(cè)值處于預(yù)設(shè)閾值范圍外；
接收來(lái)自所述第一量測(cè)機(jī)檢測(cè)所述工件形成的第三檢測(cè)集；
對(duì)所述第三檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗，以形成第三檢測(cè)值；
判斷所述第三檢測(cè)值處于所述預(yù)設(shè)閾值范圍內(nèi)；
根據(jù)所述第三檢測(cè)集和第二檢測(cè)集，形成所述校正值。
8.如權(quán)利要求6所述的量測(cè)方法，其中形成所述校正值的步驟，包括：
對(duì)所述第一檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗，以形成第一檢測(cè)值；
判斷所述第一檢測(cè)值處于預(yù)設(shè)閾值范圍外；
去除所述第一檢測(cè)集中處于所述預(yù)設(shè)閾值范圍外的部分，形成目標(biāo)檢測(cè)集；
對(duì)所述目標(biāo)檢測(cè)集進(jìn)行加權(quán)平均計(jì)算，以形成修正檢測(cè)值；
對(duì)所述第二檢測(cè)集進(jìn)行加權(quán)平均計(jì)算，以形成第二檢測(cè)值；
根據(jù)所述修正檢測(cè)值及所述第二檢測(cè)值，形成所述校正值。
9.如權(quán)利要求6所述的量測(cè)方法，其中形成所述校正值的步驟，包括：
對(duì)所述第一檢測(cè)集進(jìn)行數(shù)據(jù)清洗及歸一化處理，以形成第四檢測(cè)集；
根據(jù)所述第四檢測(cè)集與所述第二檢測(cè)集，形成所述校正值。
10.如權(quán)利要求9所述的量測(cè)方法，其中形成所述校正值的步驟，進(jìn)一步包括：
根據(jù)所述第四檢測(cè)集的均值與所述第二檢測(cè)集的均值的差值，形成所述校正值。
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