[發(fā)明專利]DRAM氧化物電極、DRAM及其應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010545328.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111883517A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐光偉;熊文豪;龍世兵;趙曉龍;白衛(wèi)平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L23/64 | 分類號(hào): | H01L23/64;H01L27/108 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 劉歌 |
| 地址: | 230026 安*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | dram 氧化物 電極 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種DRAM氧化物電極,其特征在于,該氧化物電極采用的材料包括RuOx、IrOx、PdOx、PtOx、AgOx、AuOx、Ga2O3中的任一種或多種組合。
2.一種DRAM,內(nèi)含有如權(quán)利要求1所述的DRAM氧化物電極。
3.如權(quán)利要求1所述的DRAM氧化物電極或者如權(quán)利要求2所述的DRAM在存儲(chǔ)器領(lǐng)域的應(yīng)用。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué),未經(jīng)中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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