[發明專利]玻璃鍍膜設備及其平面陰極在審
| 申請號: | 202010543545.2 | 申請日: | 2020-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN111663108A | 公開(公告)日: | 2020-09-15 |
| 發明(設計)人: | 董清世;陳大偉 | 申請(專利權)人: | 信義玻璃(天津)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414 | 代理人: | 李金偉 |
| 地址: | 300000 天津市濱*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 鍍膜 設備 及其 平面 陰極 | ||
本申請屬于玻璃鍍膜技術領域,尤其涉及一種玻璃鍍膜設備及其平面陰極,該平面陰極包括陰極背板和至少兩個平面靶材,陰極背板具有安裝面,各平面靶材均安裝于安裝面上,各平面靶材間隔設置,相鄰的兩個平面靶材之間均形成有間隙槽,相鄰的兩個平面靶材彼此相對的端面設置有第一凸起和第二凸起,在沿垂直于安裝面的方向上,第一凸起和第二凸起上下設置,第一凸起的凸伸高度與第二凸起的凸伸高度之和大于等于間隙槽的槽寬。該平面陰極相鄰兩個平面靶材拼接時不會出現由上而下垂直貫穿的縫隙,這樣濺射氣體不會通過垂直縫隙對陰極背板的侵蝕,也解決了陰極靶材背板受長時間濺射而被侵蝕損壞的問題,有效的提升了平面陰極的壽命,提高了鍍膜產品質量。
技術領域
本申請屬于玻璃鍍膜技術領域,尤其涉及一種玻璃鍍膜設備及其平面陰極。
背景技術
上世紀80年代開始,真空磁控陰極濺射鍍膜技術得到迅猛的發展,鍍膜設備中的平面陰極和平面靶材也得到越來越廣泛的應用。傳統平面陰極靶材固設于陰極背板之上并兩兩拼接時,相鄰的兩個平面陰極靶材之間會出現由上而下垂直貫穿的拼接縫隙。在陰極濺射過程中,濺射氣體會通過縫隙直接對陰極背板進行濺射侵蝕,同時在侵蝕的過程中伴有高壓放電現象,尤其是靶材快要用完時這種侵蝕放電就會越嚴重,久而久之會造成陰極背板貫穿折斷或形成孔洞,進而導致真空泄露無法生產以及陰極損壞。因此如何減少這種情況的發生,進而提升產品質量和更好的保護陰極是目前急需解決的問題。
發明內容
本申請的目的在于提供一種玻璃鍍膜設備及其平面陰極,旨在解決現有技術中的平面陰極中陰極背板易于侵蝕損壞的技術問題。
為實現上述目的,本申請采用的技術方案是:一種平面陰極,包括陰極背板和至少兩個平面靶材,所述陰極背板具有安裝面,各所述平面靶材均安裝于所述安裝面上,各所述平面靶材間隔設置,相鄰的兩個所述平面靶材之間均形成有間隙槽,相鄰的兩個所述平面靶材彼此相對的端面設置有第一凸起和第二凸起,在沿垂直于所述安裝面的方向上,所述第一凸起和所述第二凸起上下設置,所述第一凸起的凸伸高度與所述第二凸起的凸伸高度之和大于等于所述間隙槽的槽寬。
可選地,所述第一凸起包括第一水平面和第一傾斜面,所述第一水平面自所述平面靶材頂部朝向所述第二凸起水平延伸;在背向所述安裝面的方向上,所述第一傾斜面自所述平面靶材的底部傾斜朝向所述第二凸起延伸直至與所述第一水平面相連;所述第二凸起包括第二水平面和第二傾斜面,所述第二水平面自所述平面靶材底部朝向所述第一凸起水平延伸;在朝向所述安裝面的方向上,所述第二傾斜面自所述平面靶材的頂部傾斜朝向所述第二凸起延伸直至與所述第二水平面相接。
可選地,所述第一水平面與所述平面靶材的頂面齊平,所述第二水平面與所述平面靶材的底面齊平。
可選地,所述第一水平面與所述第一傾斜面之間夾角的范圍為30°~60°;所述第二水平面與所述第二傾斜面之間夾角的范圍為30°~60°。
可選地,所述第一傾斜面與所述第二傾斜面平行設置。
可選地,所述第一水平面與所述第一傾斜面之間夾角為45°;所述第二水平面與所述第二傾斜面之間夾角為45°。
可選地,相鄰的兩個所述平面靶材彼此對應的端部分別設置有用于形成所述第一凸起的第一階梯和用于形成所述第二凸起的第二階梯。
可選地,各所述平面靶材上均設置有壓條,各所述平面靶材的邊部均設有缺口,各所述壓條均包括固定部和與所述固定部連接的壓緊部,所述固定部固定安裝于所述陰極背板上,且所述壓緊部壓緊于各所述缺口。
可選地,相鄰的兩個所述壓條的彼此相對的端面分別為第三傾斜面和第四傾斜面,所述第三傾斜面和所述第四傾斜面相貼合。
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