[發(fā)明專利]封裝天線及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010543423.3 | 申請日: | 2020-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN111653527B | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王全龍;曹立強;嚴陽陽 | 申請(專利權)人: | 華進半導體封裝先導技術研發(fā)中心有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/31 | 分類號: | H01L23/31;H01L23/66;H01L21/56;H01Q1/22 |
| 代理公司: | 上海智晟知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人: | 張東梅 |
| 地址: | 214028 江蘇省無錫市新區(qū)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 封裝 天線 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種封裝天線及其制造方法,所述封裝天線包括:天線輻射貼片和封裝體,所述封裝體具有相對的第一表面和第二表面,所述天線輻射貼片固定于所述第一表面上且其輻射方向朝外,所述封裝體的內(nèi)部具有一個或多個空氣腔;芯片,所述芯片于所述第二表面暴露出且與所述第二表面平齊;再布線層,包括依次設置在所述第二表面上的RDL介質(zhì)層和RDL金屬層,所述RDL金屬層包括反射地平面,所述反射地平面接地,所述空氣腔位于所述天線輻射貼片與所述反射地平面之間。
技術領域
本發(fā)明涉及半導體技術領域,特別涉及一種封裝天線及其制造方法。
背景技術
射頻毫米波芯片與天線集成扇出型封裝中,由于塑封材料的介電常數(shù)Dk及材料損耗因子Df較大影響了天線的性能,例如文獻DOI10.1109/ECTC.2018.00039“InFO_AiPTechnology for High Performance and Compact 5G Millimeter Wave SystemIntegration”中公開一種基于INFO的晶圓級扇出天線集成技術,饋線需要經(jīng)過塑封材料耦合至天線貼片,塑封材料的Dk、Df相對較大,天線的增益與帶寬受到限制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種天線集成封裝方法及結構,以解決現(xiàn)有的射頻毫米波芯片與天線集成扇出型封裝中,由于塑封材料的介電常數(shù)Dk及材料損耗因子Df較大影響天線性能的問題。
為解決上述技術問題,本發(fā)明提供一種封裝天線,所述封裝天線包括:
天線輻射貼片和封裝體,所述封裝體具有相對的第一表面和第二表面,所述天線輻射貼片固定于所述第一表面上且其輻射方向朝外,所述封裝體的內(nèi)部具有一個或多個空氣腔;
芯片,所述芯片于所述第二表面暴露出且與所述第二表面平齊;
再布線層,包括依次設置在所述第二表面上的RDL介質(zhì)層和RDL金屬層,所述RDL金屬層包括反射地平面,所述反射地平面接地,所述空氣腔位于所述天線輻射貼片與所述反射地平面之間。
可選的,在所述的封裝天線中,所述芯片具有相對的正面和反面,所述芯片的正面于所述第二表面暴露出且與所述第二表面平齊;
所述RDL金屬層還包括饋線、多個扇出引線和多個焊盤,所述饋線連接于所述芯片以向所述天線輻射貼片饋電,所述多個焊盤通過所述RDL介質(zhì)層中的過孔連接于所述芯片;
所述空氣腔位于所述天線輻射貼片與所述饋線之間;
所述封裝天線還包括焊球,所述焊球植在所述焊盤上。
可選的,在所述的封裝天線中,所述空氣腔在所述第一表面具有上第一開口,所述第一開口位于所述天線輻射貼片的下方,所述第一開口的形狀為單孔、孔陣列、單槽、槽排列、相互套合的多個環(huán)及繞芯片一周的環(huán)狀中的一種或幾種;和/或
所述天線輻射貼片與所述第一表面之間具有低k介電材料層。
可選的,在所述的封裝天線中,所述空氣腔在所述第二表面上具有第二開口,所述第二開口的形狀與所述第一開口的形狀相同;
或所述空氣腔未貫穿所述封裝體,所述空氣腔的底面至所述第二表面的距離為5微米~30微米。
本發(fā)明還提供一種封裝天線的制造方法,所述封裝天線的制造方法包括:
在載體上方放置芯片;
將所述芯片通過封裝層模塑為一個封裝體,所述封裝體具有相對的第一表面和第二表面,所述第二表面朝向所述載體;
在所述封裝體內(nèi)部形成一個或多個空氣腔;
將天線輻射貼片布置在所述第一表面上,并使所述天線輻射貼片的輻射面朝外;
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