[發明專利]一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 202010542262.6 | 申請日: | 2020-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN111668158B | 公開(公告)日: | 2022-11-01 |
| 發明(設計)人: | 曹席磊;徐映嵩 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/77 | 分類號: | H01L21/77;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板的制備方法,包括:
形成基底,在所述基底上形成驅動結構層,所述驅動結構層包括薄膜晶體管;
在所述驅動結構層遠離所述基底一側形成平坦層,對所述平坦層進行固化和拋光磨平處理;
在所述平坦層遠離所述基底一側形成輔助層,通過構圖工藝形成彼此獨立的第一輔助電極和第二輔助電極;
使用所述輔助層作為掩膜版,形成貫穿所述平坦層且暴露所述薄膜晶體管的第一極的第一過孔;
在所述輔助層遠離所述基底一側形成第一電極,所述第一電極通過所述第一過孔與所述薄膜晶體管的第一極連接;在所述第一過孔以外區域,所述第一電極與所述第一輔助電極搭接;
在所述第一電極遠離所述基底一側形成像素界定層,所述像素界定層開設有暴露所述第二輔助電極的第二過孔;
在所述像素界定層遠離所述基底一側依次形成有機發光層和第二電極,所述第二電極通過所述第二過孔電連接所述第二輔助電極。
2.根據權利要求1所述的顯示基板的制備方法,其特征在于,所述輔助層的材料包括金屬。
3.根據權利要求1至2任一所述的顯示基板的制備方法,其特征在于,所述平坦層的材料包括黑色材料。
4.一種采用權利要求1所述制備方法制備的顯示基板,其特征在于,所述顯示基板包括:基底、依次設置在所述基底上的驅動結構層、平坦層和發光結構層;所述驅動結構層包括薄膜晶體管,所述平坦層設置有暴露所述薄膜晶體管的第一極的第一過孔,且所述第一過孔在對所述平坦層進行固化和拋光磨平處理后形成。
5.根據權利要求4所述的顯示基板,其特征在于,所述顯示基板還包括:設置在所述平坦層和所述發光結構層之間的輔助層。
6.根據權利要求5所述的顯示基板,其特征在于,所述輔助層的材料包括金屬。
7.根據權利要求5所述的顯示基板,其特征在于,
所述輔助層包括彼此獨立的第一輔助電極和第二輔助電極;
所述發光結構層包括從靠近所述輔助層一側到遠離所述輔助層一側依次設置的第一電極、像素界定層、有機發光層和第二電極,所述第一電極通過所述第一過孔與所述薄膜晶體管的第一極電連接,所述第一電極電連接所述第一輔助電極;所述像素界定層開設有暴露所述第二輔助電極的第二過孔;所述第二電極通過所述第二過孔電連接所述第二輔助電極。
8.根據權利要求4至7任一所述的顯示基板,其特征在于,所述平坦層的材料包括黑色材料。
9.根據權利要求4至7任一所述的顯示基板,其特征在于,所述平坦層的材料包括非光敏性材料。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括權利要求4至8任一所述的顯示基板。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010542262.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





