[發明專利]測量設備在審
| 申請號: | 202010542000.X | 申請日: | 2020-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN112099041A | 公開(公告)日: | 2020-12-18 |
| 發明(設計)人: | 額邦行;荻原元德;川端武史;鈴木浩三郎 | 申請(專利權)人: | 株式會社三豐 |
| 主分類號: | G01S17/66 | 分類號: | G01S17/66;G01S7/481 |
| 代理公司: | 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444 | 代理人: | 張莉;王剛 |
| 地址: | 日本國神奈川縣*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 設備 | ||
1.一種向目標發射光束、捕捉并跟蹤所述目標并測量所述目標的三維坐標的測量設備,包括:
光源,用于發射光束;
角度控制單元,用于控制從所述光源發射的所述光束的發射角度以跟蹤移動的所述目標;
成像單元,用于捕捉所述目標或所述目標的附近;和
識別單元,用于從由所述成像單元捕捉的圖像識別所述目標或包括所述目標的特定部分;
其中,所述角度控制單元控制所述光束的發射角度,以在所述目標的跟蹤被解除時向由所述識別單元識別出的所述目標或包括所述目標的所述特定部分發射所述光束。
2.根據權利要求1所述的測量設備,其中,
所述識別單元從所述圖像中識別持有所述目標的測量者的面部作為包括所述目標的所述特定部分,并且
所述角度控制單元控制所述光束的發射角度,以使所述光束向由所述識別單元識別出的所述面部以外的位置發射。
3.根據權利要求1所述的測量設備,其中,
所述識別單元從所述圖像中識別持有所述目標的測量者的輪廓區域,并且
所述角度控制單元控制所述發射角度,使得所述光束向由所述識別單元識別出的所述輪廓區域的特定位置發射。
4.根據權利要求3所述的測量設備,其中,所述特定位置在所述輪廓區域中的重心位置附近。
5.根據權利要求1所述的測量設備,其中,
所述識別單元將所述目標識別為所述特定部分,并且
所述角度控制單元控制所述光束的發射角度,使得所述光束向由所述識別單元識別出的所述目標的位置發射。
6.根據權利要求1所述的測量設備,其中,所述識別單元從所述圖像提取特定動作以識別持有所述目標的測量者。
7.根據權利要求1所述的測量設備,還包括:光量調節單元,所述光量調節單元用于在所述目標的跟蹤被解除時減少從所述光源發射的所述光束的光量。
8.根據權利要求1所述的測量設備,還包括:
顯示單元,所述顯示單元能夠由持有所述目標的測量者佩戴,以及
顯示控制單元,所述顯示控制單元控制在所述顯示單元上顯示的信息,
其中,所述顯示控制單元執行控制以將引導圖像疊置和顯示在所述顯示單元上所顯示的所述目標的圖像的附近,以便向所述目標發射所述光束。
9.根據權利要求8所述的測量設備,其中,所述顯示控制單元執行控制,以將指示所述目標的光接收方向和光接收區域的對象圖像作為所述引導圖像疊置并顯示在所述目標的圖像上。
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