[發明專利]具有正棱柱形主鼓的橫向彩虹膜生產裝置及其鍍膜工藝有效
| 申請號: | 202010540359.3 | 申請日: | 2020-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN111501007B | 公開(公告)日: | 2020-12-22 |
| 發明(設計)人: | 劉思遠 | 申請(專利權)人: | 合肥市輝耀真空材料有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/24 |
| 代理公司: | 合肥廣源知識產權代理事務所(普通合伙) 34129 | 代理人: | 胡麗虹 |
| 地址: | 231100 安徽省*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 棱柱 形主鼓 橫向 彩虹 生產 裝置 及其 鍍膜 工藝 | ||
本發明涉及真空蒸鍍技術領域,具體涉及一種具有正棱柱形主鼓的橫向彩虹膜生產裝置及其鍍膜工藝;包括真空倉,真空倉中設置有放卷輥、收卷輥、若干導向輥,放卷輥上設置有蒸鍍基材,收卷輥的一端部設置有第一變頻電機,第一變頻電機與變頻器相連接,真空倉的內腔下端設置有蒸鍍室,真空倉中設置有正棱柱形主鼓,正棱柱形主鼓的截面為正N邊形,且8≤N≤64;本發明通過設置的正棱柱形主鼓能夠使得正棱柱形主鼓上每個平面上的點在蒸鍍過程中與蒸發源的距離不同,同時在牽引鍍膜過程中將傳統的勻速牽引改進為非勻速牽引,使得真空蒸鍍得到的卷膜表面的鍍層厚度不均勻,其整個裝置在真空鍍膜時的原理與眾不同、而且制備的橫向彩虹膜的效果優異。
技術領域
本發明涉及真空蒸鍍技術領域,具體涉及一種具有正棱柱形主鼓的橫向彩虹膜生產裝置及其鍍膜工藝。
背景技術
在真空環境下將靶材加熱升華并鍍到基材表面的過程稱為真空鍍膜。真空鍍膜顧名思義是在真空環境下將靶材(如硫化鋅)加熱升華鍍到卷膜材料(PTE膜、PP膜、OPP膜和反光植株膜等)表面,然后通過卷膜材料上硫化鋅層的呈現出顏色,使得卷膜材料外觀艷麗。目前,真空蒸鍍制備的反光膜分為高亮單色反光膜和多彩反光膜(即彩虹膜)。其中單色高亮反光膜在制備過程中需要保證卷膜材料表面鍍上的靶材厚度均勻,從而在光線下呈現出單一顏色的膜面;而彩虹膜的制備與高亮反光膜恰恰相反,其在制備過程中需要控制卷膜材料表面鍍上的靶材厚度不均勻,然后在光線照射下呈現出五顏六色的膜面。
傳統的彩虹膜的真空蒸鍍原理均是通過一個牽引裝置將卷膜材料繞在圓柱形的主鼓上并勻速通過真空室中蒸發槽的上方,其蒸發槽中由于多個蒸發舟的間隔和錯位設置,并且靶材蒸發時呈發散狀態,附著卷膜材料表面時鍍層相互交錯重疊,且各處的重疊效果不同,從而使得靶材在蒸發升華時鍍在卷膜材料上的縱向厚度不均勻,而不同厚度的靶材鍍層其對光線的干涉不同,從而在縱向上呈現出多彩膜面;例如專利號為CN109468591A的發明就公開了一種真空蒸鍍工藝制備幻彩反光膜的方法,其蒸鍍彩虹膜的與原理傳統的彩虹膜制備原理相同,由于卷膜材料繞在圓柱形主鼓上勻速通過蒸發槽上方,使得在卷膜材料在牽引方向(即橫向)上鍍層厚度均勻,而由于蒸鍍靶材的特殊布置使得卷膜材料在縱向上厚度不均勻,從而制備出縱向彩虹膜。
又如專利號為CN2848871Y的發明公開了一種生產彩虹膜或紙的高真空電鍍設備,其主要結構包括鍍膜的真空工作室和高真空抽取裝置,鍍膜的真空工作室內用隔板分隔為上、下兩室,上室為低真空的卷繞室內有兩個收放卷輥,四個從動輥,下室為高真空的蒸鍍室,蒸發槽的右上角有一個補充蒸發材料的漏斗容器,在漏斗容器與蒸發槽連接的送料通道上裝有開閉調節閥;該發明公開的真空電鍍設備均是通過將卷膜材料繞在圓柱形主鼓上并勻速通過蒸發槽上,其制備的彩虹膜均只能保證鍍膜材料在縱向上出現彩條,而在卷膜牽引方向(即橫向)上顏色相同,其整個膜面呈現縱向的彩虹膜。而在制備的縱向彩虹膜由于受到卷膜材料寬幅的限制,無法將其進一步較長的彩色的織帶、細絲,因此其應用領域受到極大限制。針對現有真空鍍膜機只能制備橫向彩虹膜以及現有鍍膜工藝只能縱向蒸鍍彩虹膜的上述不足,設計一種具有正棱柱形主鼓的橫向彩虹膜生產裝置以及鍍膜工藝是一項有待解決的技術難題。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是設計了一種具有正棱柱形主鼓的橫向彩虹膜生產裝置及其鍍膜工藝,以解現有真空蒸鍍彩虹膜技術只能縱向蒸鍍彩虹膜,無法實現橫向蒸鍍彩虹膜的不足。
本發明是通過以下技術方案實現的:
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