[發明專利]一種多孔碳化硅陶瓷及低溫制備方法有效
| 申請號: | 202010538527.5 | 申請日: | 2020-06-13 |
| 公開(公告)號: | CN111548186B | 公開(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發明(設計)人: | 李秋惠 | 申請(專利權)人: | 寧波歐翔精細陶瓷技術有限公司 |
| 主分類號: | C04B38/06 | 分類號: | C04B38/06;C04B35/565;C04B35/622;C04B35/626;C04B35/64 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 多孔 碳化硅 陶瓷 低溫 制備 方法 | ||
本發明涉及陶瓷材料技術領域,公開了一種多孔碳化硅陶瓷,所述多孔碳化硅陶瓷的原料包括主料、分散劑、粘結劑和去離子水;其中,按照重量份數計,所述主料包括80?90重量份的碳化硅、1?5重量份的燒結助劑、4?10重量份的造孔劑和5?10重量份的添加劑;所述燒結助劑為氧化鉀;所述造孔劑為高氯酸銨和堿式碳酸鉍的混合物;所述添加劑為氧化鈣和二氧化鈦的混合物。本發明所述多孔碳化硅陶瓷除了具有較低的燒結溫度,還具有較高的孔隙率以及較好的抗彎曲強度,實現了性能優異的多孔碳化硅陶瓷的制備,并減少了能耗。
技術領域
本發明涉及陶瓷材料技術領域,具體涉及一種多孔碳化硅陶瓷及低溫制備方法。
背景技術
多孔碳化硅陶瓷是指經高溫燒成,體內具有大量彼此連通的陶瓷材料。多孔碳化硅陶瓷因具有高溫強度高、耐腐蝕、抗氧化、較高的熱導率及微波吸收等特點,而在航空航天、汽車、機械、電子、化工、能源以及環保等領域得到廣泛的應用。
目前,已經報道的的制備多孔碳化硅陶瓷的方法,通常需要在高溫條件下進行燒結,制備過程能耗大,直接造成成本的增加,而且制備的多孔碳化硅陶瓷氣孔率低、抗彎曲強度差等。
發明內容
本發明的目的是為了克服現有技術存在的不足,提供了一種多孔碳化硅陶瓷及低溫制備方法。
為了實現上述目的,本發明第一方面提供了一種多孔碳化硅陶瓷,所述多孔碳化硅陶瓷的原料包括主料、分散劑、粘結劑和去離子水。
其中,按照重量份數計,所述主料包括80-90重量份的碳化硅、1-5重量份的燒結助劑、4-10重量份的造孔劑和5-10重量份的添加劑。
優選的,所述燒結助劑為氧化鉀。
優選的,所述造孔劑為高氯酸銨和堿式碳酸鉍的混合物。
優選的,所述添加劑為氧化鈣和二氧化鈦的混合物。
優選的,所述分散劑為聚乙二醇,其用量為主料總重量的4-6%。
優選的,所述粘結劑為糊精,其用量為主料總重量的3-5%。
優選的,所述去離子水的用量為主料總重量的45-55%。
優選的,所述高氯酸銨與堿式碳酸鉍的質量比為1:4-10。
優選的,所述氧化鈣與二氧化鈦的質量比為3-6:1。
本發明第二方面提供了上述所述的多孔碳化硅陶瓷的低溫制備方法,所述低溫制備方法包括以下步驟:
(1)將碳化硅、燒結助劑、添加劑與分散劑、粘結劑和去離子水組成的混合液進行球磨混合,得碳化硅漿料;
(2)將所述碳化硅漿料與造孔劑攪拌混合后噴霧造粒,之后于80-150MPa下進行干壓成型,得碳化硅素坯;
(3)將所述碳化硅素坯在氬氣氣氛下進行燒結,得多孔碳化硅陶瓷。
優選的,在步驟(1)中,所述球磨時間為1-2h。
優選的,在步驟(2)中,所述噴霧造粒的條件為:進料速率為2-3kg/h,進風溫度為210-250℃,出風溫度為100-110℃。
優選的,在步驟(3)中,燒結條件為:于管式爐中,以30-40ml/min速率向爐內通入氬氣,在氬氣保護狀態下,先以2-5℃/min的速率升至600-800℃,保溫0.5-1h,再以4-8℃/min的速率升溫至1000-1100℃,保溫1-3h,之后自然冷卻至室溫,得多孔碳化硅陶瓷。
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