[發(fā)明專利]點光源識讀激光加密全息防偽墊片及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010538157.5
• 申請日: 2020-06-12
• 公開（公告）號: CN111559572B
• 公開（公告）日: 2023-06-02
• 發(fā)明（設計）人: 張傳東;張欽永;田興坡;田辰琪;金凱;鞏建寶
• 申請（專利權）人: 山東泰寶信息科技集團有限公司
• 主分類號: B65D53/04
• 分類號: B65D53/04;B65D55/02;B32B27/36;B32B27/08;B32B27/32;B32B7/12;B32B37/12;B32B38/14;B41M3/14;B42D25/328;C09J163/00
• 代理公司: 青島發(fā)思特專利商標代理有限公司 37212
• 代理人: 趙真真

1.一種點光源識讀激光加密全息防偽墊片，其特征在于：包括從上到下依次相連的上PET層（1）、成像層（2）、激光加密信息層（3）、鍍鋁層（4）、印刷層（5）、上膠黏劑層（6）、發(fā)泡層（7）、下膠黏劑層（8）和下PET層（9），所述的激光加密信息層（3）里面隱藏數字編碼信息；

所述的點光源識讀激光加密全息防偽墊片的制備方法，包括以下步驟：

（1）在PET膜電暈面涂布成像層，成像層與PET不能分離；

（2）激光加密信息層模壓版的制作：

首先制作隱藏圖案，將隱藏圖案放置于極坐標系，根據系統(tǒng)抽樣方法，隨機抽取N（N=n*n）個像素點，其中，n≥4，分別計算每個像素點到坐標系零點的距離ρ和夾角角度θ，根據每個像素點到坐標系零點的距離，得出一個n*n的矩陣，最終得出空頻灰度圖矩陣G；根據每個像素點到坐標系零點的夾角，得出一個n*n的矩陣，最終得出角度灰度圖矩陣H，根據空頻灰度圖矩陣G和角度灰度圖矩陣H，在光刻機中完成激光加密信息模壓層的制版工作，得到激光加密信息層模壓版；

（3）使用模壓凹印一體機將模壓板上的激光加密信息復制到PET成像層上，形成激光加密信息層；

（4）在激光加密信息層面采用真空鍍鋁法進行鍍鋁；

（5）采用洗鋁機將凹印水洗墨區(qū)域的鋁層洗掉；

（6）在洗鋁區(qū)域印刷防偽特征，形成印刷層；

（7）在印刷層面涂布膠黏劑層與發(fā)泡層復合；

（8）在發(fā)泡層的另一面涂布膠黏劑層與PET膜復合，

（9）使用模切機模切成單個全息墊片，即得；

所述的激光加密信息層模壓版的制作包括以下步驟：

（1）根據設計文件，制作隱藏圖案，建立極坐標系，將圖案放置于極坐標系中零點處；

（2）圖案分辨率為a*b，圖案中共由a*b個像素點組成，根據系統(tǒng)抽樣方法，隨機抽取N（N=n*n）個像素點，其中，n≥4，使用計算機計算每個像素點的坐標值（x₁，y₁）、（x₂，y₂）、（x₃，y₃）、……（x_N，y_N），以及每個像素點與零點的距離（ρ₁、ρ₂、ρ₃、……ρ_N）；

（3）根據極坐標系公式x=ρcosθ，y=ρcosθ，分別計算每個像素點與零點夾角角度（θ₁、θ₂、θ₃、……θ_N）；

（4）L為觀察距離，是固定參量，β為光柵角度，d為光柵柵距，λ為激光器波長，根據tanβ=ρ/L，可以求得β，根據光柵方程sinβ=λ/d，可以求得光柵柵距d，此時可以建立每個光柵晶格的二維參量（d₁，θ₁）、（d₂，θ₂）、（d₃，θ₃）……（d_N，θ_N）；

（5）根據N個光柵晶格的光柵柵距d，可以得到一個矩陣如下：

d₁，d₂，……………………d_n

d_n+1，d_n+2，………………d_2*n

………………………………

d_{n*（n-1）+1}，d_{?n*（n-1）+2}，……d_n*n

計算得出d的最大值d_max和最小值d_min，最小值對應灰度值0，最大值對應灰度值255，按照此對應關系，可將N個d的值對應成另一個由灰度值組成的矩陣G，此矩陣便構成一幅灰度圖，如下：

G₁，G₂，……………………G_n

G_n+1，G_n+2，………………G_2*n

………………………………

G_{n*（n-1）+1}，G_{?n*（n-1）+2}，……G_n*n；

（6）根據了N個光柵晶格的角度θ，可以得到一個矩陣如下：

θ₁，θ₂，……………………θ_n

θ_n+1，θ_n+2，………………θ_2*n

………………………………

θ_{n*（n-1）+1}，θ_{?n*（n-1）+2}，……θ_n*n

計算得出θ的最大值θ_max和最小值θ_min，最小值對應灰度值0，最大值對應灰度值255，按照此對應關系，可將N個θ的值對應成另一個由灰度值組成的矩陣H，此矩陣便構成一幅灰度圖，如下：

H₁，H₂，……………………H_n

H_n+1，H_n+2，………………H_2*n

………………………………

H_{n*（n-1）+1}，H_{?n*（n-1）+2}，……H_n*n；

（7）根據所述光刻空頻灰度矩陣G與光柵角度灰度矩陣H，制作一個曝光單元，上述曝光單元尺寸是邊長為n/R毫米的正方形，其中R為光刻圖的分辨率，10dpi＜R＜50800dpi；

（8）將步驟（7）中的曝光單元陣列成設計尺寸，經過光刻工藝制作在光刻膠版上，經顯影電鍍后得到激光加密信息層模壓版。