[發明專利]點光源識讀激光加密塑膜防偽標識及其制備方法

在審

• 申請號: 202010538144.8
• 申請日: 2020-06-12
• 公開（公告）號: CN111564101A
• 公開（公告）日: 2020-08-21
• 發明（設計）人: 張振;張欽永;田學鋒;崔若峰;田茂濤;鞏建寶
• 申請（專利權）人: 山東泰寶信息科技集團有限公司
• 主分類號: G09F3/02
• 分類號: G09F3/02;G02B5/18
• 代理公司: 青島發思特專利商標代理有限公司 37212
• 代理人: 趙真真

1.一種點光源識讀激光加密塑膜防偽標識，其特征在于：包括從上到下依次相連的PET層(1)、成像層(2)、激光加密信息層(3)、復制層(4)、印刷層(5)、凹印層(6)、壓敏膠層(7)、和硅油紙層(8)，在所述激光加密信息層(3)里面隱藏數字編碼信息。

2.根據權利要求1所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識，其特征在于：所述的PET層(1)為12-50μm的單面電暈PET膜。

3.根據權利要求1所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識，其特征在于：所述的PET層(1)和成像層(2)不可分離。

4.根據權利要求1所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識，其特征在于：所述的復制層(4)是一種可復制全息圖案的UV光油。

5.根據權利要求1所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識，其特征在于：所述的復制層(4)與激光加密信息層(3)之間的90°剝離強度為0.0025-0.0060千牛/米。

6.根據權利要求1所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識，其特征在于：所述的復制層(4)的厚度為4-6μm。

7.根據權利要求1所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識，其特征在于：所述的激光加密信息層(3)里的隱藏數字編碼信息圖案為文字、字母、數字、符號或圖形中的一種或一種以上。

8.根據權利要求1所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識，其特征在于：所述的激光加密信息層(3)里的隱藏數字編碼信息由多個正方形光柵晶格陣列組成，處理方式為激光刻蝕，所述光柵晶格含有光柵空頻以及光柵角度兩個參量。

9.一種權利要求1-8任一所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

(1)選擇單面電暈PET膜為PET層，在PET膜電暈面涂布成像層；

(2)激光加密信息層模壓版的制作：

首先制作隱藏圖案，將隱藏圖案放置于極坐標系，根據系統抽樣方法，隨機抽取N(N＝n*n)個像素點，其中，n≥4，分別計算每個像素點到坐標系零點的距離ρ和夾角角度θ，根據每個像素點到坐標系零點的距離，得出一個n*n的矩陣，最終得出空頻灰度圖矩陣G；根據每個像素點到坐標系零點的夾角，得出一個n*n的矩陣，最終得出角度灰度圖矩陣H，根據空頻灰度圖矩陣G和角度灰度圖矩陣H，在光刻機中完成激光加密信息模壓層的制版工作，得到激光加密信息層模壓版；

(3)使用模壓機將激光加密信息復制在PET成像層上面，形成激光加密信息層；

(4)在激光加密信息層上面涂布復制層；

(5)在復制層上面印刷防偽特征，形成印刷層；

(6)在印刷層面使用凹印機印刷凹印白墨形成凹印層；

(7)使用涂膠機在凹印層上涂布壓敏膠層并與硅油紙層復合；

(8)使用模切機模切成單個標識，即得。

10.根據權利要求9所述的點光源識讀激光加密塑膜防偽標識的制備方法，其特征在于：所述的激光加密信息層模壓版的制作包括以下步驟：

(1)根據設計文件，制作隱藏圖案，建立極坐標系，將圖案放置于極坐標系中零點處；

(2)圖案分辨率為a*b，圖案中共由a*b個像素點組成，根據系統抽樣方法，隨機抽取N(N＝n*n)個像素點，其中，n≥4，使用計算機計算每個像素點的坐標值(x₁，y₁)、(x₂，y₂)、(x₃，y₃)、……(x_N，y_N)，以及每個像素點與零點的距離(ρ₁、ρ₂、ρ₃、……ρ_N)；

(3)根據極坐標系公式x＝ρcosθ，y＝ρcosθ，分別計算每個像素點與零點夾角角度(θ₁、θ₁、θ₁、……θ_N)；

(4)L為觀察距離，是固定參量，β為光柵角度，d為光柵柵距，λ為激光器波長，根據tanβ＝ρ/L，可以求得β，根據光柵方程sinβ＝λ/d，可以求得光柵柵距d，此時可以建立每個光柵晶格的二維參量(d₁，θ₁)、(d₂，θ₂)、(d₃，θ₃)……(d_N，θ_N)；

(5)根據N個光柵晶格的光柵柵距d，可以得到一個矩陣如下：

d₁，d₂，……………………d_n

d_n+1，d_n+2，………………d_2*n

………………………………

d_n*(n-1)+1，d_n*(n-1)+2，……d_n*n

計算得出d的最大值d_max和最小值d_min，最小值對應灰度值0，最大值對應灰度值255，按照此對應關系，可將N個d的值對應成另一個由灰度值組成的矩陣G，此矩陣便構成一幅灰度圖，如下：

G₁，G₂，……………………G_n

G_n+1，G_n+2，………………G_2*n

………………………………

G_n*(n-1)+1，G_n*(n-1)+2，……G_n*n；

(6)根據了N個光柵晶格的角度θ，可以得到一個矩陣如下：

θ₁，θ₂，……………………θ_n

θ_n+1，θ_n+2，………………θ_2*n

………………………………

θ_n*(n-1)+1，θ_n*(n-1)+2，……θ_n*n

計算得出θ的最大值θ_max和最小值θ_min，最小值對應灰度值0，最大值對應灰度值255，按照此對應關系，可將N個θ的值對應成另一個由灰度值組成的矩陣H，此矩陣便構成一幅灰度圖，如下：

H₁，H₂，……………………H_n

H_n+1，H_n+2，………………H_2*n

………………………………

H_n*(n-1)+1，H_n*(n-1)+2，……H_n*n；

(7)根據光刻空頻灰度矩陣G與光柵角度灰度矩陣H，制作一個曝光單元，上述曝光單元尺寸是邊長為n/R毫米的正方形，其中R為光刻圖的分辨率，10dpi＜R＜50800dpi；

(8)將步驟(7)中的曝光單元陣列成設計尺寸，經過光刻工藝制作在光刻膠版上，經顯影電鍍后得到激光加密信息層模壓版。