[發明專利]一種用于幀內預測的濾波方法,濾波器及裝置有效
| 申請號: | 202010537729.8 | 申請日: | 2020-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN111787334B | 公開(公告)日: | 2021-09-14 |
| 發明(設計)人: | 江東;張雪;方誠;林聚財;殷俊 | 申請(專利權)人: | 浙江大華技術股份有限公司 |
| 主分類號: | H04N19/82 | 分類號: | H04N19/82;H04N19/86 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 黎堅怡 |
| 地址: | 310051 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 預測 濾波 方法 濾波器 裝置 | ||
1.一種幀內預測濾波方法,其特征在于,包括:
獲得濾波參數;其中,所述濾波參數包括濾波系數;
利用所述濾波參數對當前幀內預測塊進行濾波;
其中,所述濾波系數基于待濾波點的第一距離與第二距離之間的關系確定,其中所述第一距離為待濾波點與濾波參考像素之間的距離,所述第二距離為待濾波點與預測參考像素之間的距離。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述濾波參數還包括濾波參考像素、濾波參考值或濾波范圍中的至少一種。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述獲得濾波參數包括:
基于所述當前幀內預測塊中待濾波點的預測參考像素的方向,選取與所述預測參考像素相同方向的參考像素作為所述濾波參考像素。
4.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述獲得濾波參數包括:
基于所述當前幀內預測塊中待濾波點的預測參考像素的方向,選取與所述預測參考像素不同方向的參考像素作為所述濾波參考像素。
5.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述當前幀內預測塊的預測方式為角度預測方式,所述獲得濾波參數包括:
獲得至少兩個方向的參考像素作為所述濾波參考像素。
6.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述獲得濾波參數包括:
基于預設的所述濾波范圍與所述當前幀內預測塊的尺寸比例,確定所述濾波范圍。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述基于預設的所述濾波范圍與所述當前幀內預測塊的尺寸比例,確定所述濾波范圍包括:
獲取所述預設的所述濾波范圍與所述當前幀內預測塊的尺寸比例;
基于所述比例與所述當前幀內預測塊的寬度,確定所述濾波范圍的寬度,并且基于所述比例與所述當前幀內預測塊的高度,確定所述濾波范圍的高度;
基于所述濾波范圍的寬度和所述濾波范圍的高度,確定所述濾波范圍。
8.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述當前幀內預測塊的預測方式為角度預測,所述獲得濾波參數包括:
將滿足第二預定條件的所述當前幀內預測塊中的預測點確定為待濾波點,所述待濾波點即構成所述濾波范圍;
其中,所述第二預定條件為所述預測點到所述濾波參考像素和預測參考像素之間的距離關系小于第三閾值。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述濾波參考像素包括兩個方向的參考像素,所述將滿足第二預定條件的所述當前幀內預測塊中的預測點確定為待濾波點包括:
選擇與所述預測參考像素不同方向的所述濾波參考像素進行所述距離關系的計算。
10.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述濾波系數基于待濾波點的第一距離與第二距離之間的關系確定包括:
所述濾波系數至少與所述待濾波點的所述第一距離與所述第二距離之間的比例負相關。
11.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用所述濾波參數對當前幀內預測塊進行濾波包括:
利用所述濾波參數對所述當前幀內預測塊的亮度進行濾波。
12.根據權利要求11所述的方法,其特征在于,所述獲得濾波參數包括:
利用亮度參考像素濾波方式對所述濾波參考像素進行濾波,獲得亮度濾波參考值;其中所述亮度參考像素濾波方式與所述濾波參考像素附近的若干參考像素相關。
13.根據權利要求12所述的方法,其特征在于,所述利用亮度參考像素濾波方式對所述濾波參考像素進行濾波包括:
獲取所述濾波參考像素及其附近的所述若干參考像素相對應的系數;
基于所述系數,對所述濾波參考像素的亮度值及其附近的所述若干參考像素的亮度值進行加權求平均。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江大華技術股份有限公司,未經浙江大華技術股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010537729.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





