[發(fā)明專利]挖孔全面屏用偏光片孔內(nèi)異物清潔檢測裝置及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010536839.2
• 申請日: 2020-06-12
• 公開（公告）號: CN111632956B
• 公開（公告）日: 2022-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 雷超;張利娣
• 申請（專利權(quán)）人: 惠州市富麗電子有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;G01B11/00;G01B11/12;G01B11/27;G01N21/95
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 王華強

1.一種挖孔全面屏用偏光片孔內(nèi)異物清潔檢測方法，其特征在于，包括挖孔全面屏用偏光片孔內(nèi)異物清潔檢測裝置，所述挖孔全面屏用偏光片孔內(nèi)異物清潔檢測裝置包括：

上料機構(gòu)(1)，其用于偏光片的上料；所述偏光片具有內(nèi)孔；

傳送機構(gòu)(2)，所述傳送機構(gòu)(2)的始端與所述上料機構(gòu)(1)相鄰；所述傳送機構(gòu)(2)接收所述上料機構(gòu)(1)上料的所述偏光片，并對所述偏光片進行傳送；所述傳送機構(gòu)(2)具有吸附位，所述傳送機構(gòu)(2)的吸附位對傳送的所述偏光片進行吸附；

激光定位清洗檢測機構(gòu)(3)，其設(shè)于所述傳送機構(gòu)(2)的傳送路徑上；所述激光定位清洗檢測機構(gòu)(3)具有CCD拍攝端及激光清洗端，所述CCD拍攝端對經(jīng)過的所述偏光片的內(nèi)孔進行CCD定位，并對所述內(nèi)孔尺寸進行檢測，所述激光清洗端對定位后的所述內(nèi)孔進行激光清潔，所述CCD拍攝端再對清潔完成后的所述內(nèi)孔進行檢測；以及

下料機構(gòu)(4)，其與所述傳送機構(gòu)(2)的末端相鄰；所述下料機構(gòu)(4)接收所述內(nèi)孔清潔完成后的所述偏光片，并分別對良品偏光片和不良品偏光片進行下料；所述上料機構(gòu)(1)包括第一上料組件(11)、第二上料組件(12)、第三上料組件(13)以及第四上料組件(14)；所述第一上料組件(11)以及第二上料組件(12)分別位于所述傳送機構(gòu)(2)相對的兩側(cè)，所述第三上料組件(13)與所述第一上料組件(11)相鄰，所述第四上料組件(14)與所述第二上料組件(12)相鄰，所述第一上料組件(11)與所述第四上料組件(14)正對，所述第二上料組件(12)與所述第三上料組件(13)正對；當(dāng)內(nèi)孔(200)處于偏光片(100)的中間位置并靠近于偏光片(100)的上端邊緣時，由正對的所述第一上料組件(11)與所述第四上料組件(14)，或者由正對所述第二上料組件(12)與所述第三上料組件(13)進行上料，使得兩個偏光片(100)在傳送機構(gòu)(2)上形成內(nèi)孔(200)相鄰排布；當(dāng)內(nèi)孔(200)處于偏光片(100)的直角部，由正對的所述第一上料組件(11)與所述第四上料組件(14)，以及正對所述第二上料組件(12)與所述第三上料組件(13)進行上料，使得四個偏光片(100)在傳送機構(gòu)(2)上形成內(nèi)孔(200)相鄰排布；所述下料機構(gòu)(4)包括第一下料組件(41)以及第二下料組件(42)，所述第一下料組件(41)以及第二下料組件(42)分別位于所述傳送機構(gòu)(2)相對的兩側(cè)；

其還包括以下步驟：

對偏光片進行雙邊上料；

對上料的所述偏光片進行吸附傳送；

對傳送的所述偏光片進行CCD定位，并對內(nèi)孔尺寸進行檢測；

先根據(jù)所述CCD定位信息進行所述偏光片的內(nèi)孔清洗位置的修正，而后再進行激光清潔；

對清潔完成后的所述內(nèi)孔進行檢測；

對激光清潔后的良品偏光片和不良品偏光片分別進行下料；

其中，先根據(jù)所述CCD定位信息進行所述偏光片的內(nèi)孔清洗位置的修正，而后再進行激光清潔，包括：

預(yù)設(shè)待清洗內(nèi)孔的標準直徑；

根據(jù)CCD定位信息識別出內(nèi)孔的半徑及圓心；

以圓心作為基準點，以標準直徑進行清洗修正；

進行激光清潔。