[發(fā)明專利]一種基于激光投影技術(shù)的設(shè)備及輔助制孔方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010534923.0 | 申請日： | 2020-06-12 |
| 公開（公告）號： | CN111811424B | 公開（公告）日： | 2022-04-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張瑩;封璞加;胡俊杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 陜西飛機工業(yè)（集團(tuán)）有限公司 |
| 主分類號： | G01B11/24 | 分類號： | G01B11/24;G01B11/00 |
| 代理公司： | 貴州國防工業(yè)專利中心 52001 | 代理人： | 陸斌 |
| 地址： | 72321*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 激光 投影 技術(shù) 設(shè)備 輔助 方法 | ||
1.一種基于激光投影技術(shù)的設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包含電腦、控制盒、激光投影儀，電腦通過網(wǎng)線與控制盒連接，控制盒通過數(shù)據(jù)線與投影儀連接；
激光投影對象包含：
靶標(biāo)點：靶標(biāo)點用于激光投影設(shè)備創(chuàng)建坐標(biāo)系，所創(chuàng)建坐標(biāo)系即為產(chǎn)品坐標(biāo)系，靶標(biāo)點要求在空間位置上包含投影對象，數(shù)量不少于4個，靶標(biāo)點在空間中的位置是已知的；
投影孔位：即位于目標(biāo)工件上的三維點坐標(biāo)，為保證投影結(jié)果的準(zhǔn)確性，投影時需保證投影光線所達(dá)支持面與投影孔位所處面一致；
激光投影對象還包括：目標(biāo)工件外形，即投影孔位所處支持面的三維外形輪廓，在靶標(biāo)點投影測量后，對目標(biāo)工件外形進(jìn)行投影，用以檢查激光投影設(shè)備坐標(biāo)系與產(chǎn)品坐標(biāo)系一致性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于激光投影技術(shù)的設(shè)備，其特征在于，靶標(biāo)點分布的最大化包容原則：為保證投影結(jié)果準(zhǔn)確性，靶標(biāo)點應(yīng)遵循最大化包容原則，其分布應(yīng)在空間上包含投影點位。
3.一種基于激光投影技術(shù)的輔助制孔方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：
步驟1：將理論投影信息輸入激光投影軟件；
步驟2：用投影儀照射并測量靶標(biāo)點，創(chuàng)建產(chǎn)品坐標(biāo)系；所述產(chǎn)品坐標(biāo)系的創(chuàng)建方法為：用投影儀測量靶標(biāo)點，通過投影軟件自動計算，使投影儀坐標(biāo)系與產(chǎn)品坐標(biāo)系對齊；
步驟3：用激光投影設(shè)備投出目標(biāo)工件外形，檢查外形匹配度；
步驟4：投影制孔點位，根據(jù)投影點位畫線后制孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于激光投影技術(shù)的輔助制孔方法，其特征在于，所述步驟1中理論投影信息括靶標(biāo)點、目標(biāo)工件外形、投影孔位信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于激光投影技術(shù)的輔助制孔方法，其特征在于，激光投影設(shè)備工作過程為：使用投影軟件讀取投影目標(biāo)理論信息并轉(zhuǎn)換成設(shè)備可識別的程序，通過控制盒讀取程序，控制投影儀投射影像。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于激光投影技術(shù)的輔助制孔方法，其特征在于，激光投影工作原理為：已知靶標(biāo)點位置，通過投影儀測量靶標(biāo)點，計算出投影儀位置，再通過投影軟件控制投影儀對目標(biāo)工件進(jìn)行投影。
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