[發(fā)明專利]用于添加式地制造三維物體的設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010534340.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111645324A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | F·赫爾佐克;F·貝希曼;P·龐蒂勒-許穆拉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | CL產(chǎn)權(quán)管理有限公司 |
| 主分類號(hào): | B29C64/273 | 分類號(hào): | B29C64/273;B29C64/153;B29C64/386;B29C64/393;B22F3/105;B28B1/00;B33Y30/00;B33Y50/00;B33Y50/02 |
| 代理公司: | 上海華誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31300 | 代理人: | 徐穎聰 |
| 地址: | 德國(guó)利希*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 添加 制造 三維 物體 設(shè)備 | ||
1.一種用于添加式地制造三維物體(2)的設(shè)備(1),其特征在于,所述設(shè)備(1)包括:
能量束生成裝置(4),所述能量束生成裝置被構(gòu)造成提供依次選擇性逐層暴露并從而固化建造材料(3)的層;
過(guò)程室(6),在所述過(guò)程室內(nèi)執(zhí)行所述依次選擇性逐層暴露并從而固化所述建造材料(3)的層;和
溫度控制裝置(11),包括:
保持裝置(15);和
多個(gè)溫度控制二極管,所述多個(gè)溫度控制二極管布置在所述保持裝置(15)上或所述保持裝置(15)中,所述多個(gè)溫度控制二極管中的相應(yīng)溫度控制二極管被構(gòu)造成產(chǎn)生相應(yīng)溫度控制射束,使得所述多個(gè)溫度控制二極管提供被構(gòu)造成控制建造材料(3)的相應(yīng)層的溫度的相應(yīng)的多個(gè)溫度控制射束。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述多個(gè)溫度控制二極管在至少一個(gè)平面中以行或列布置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述保持裝置包括框架,在所述框架上或所述框架中布置溫度控制二極管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述多個(gè)溫度控制二極管包括多個(gè)表面發(fā)射二極管。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述多個(gè)溫度控制二極管包括多個(gè)垂直腔表面發(fā)射激光二極管。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述多個(gè)溫度控制二極管被構(gòu)造成產(chǎn)生具有能夠改變的一個(gè)或多個(gè)射束特性的相應(yīng)溫度控制射束。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述多個(gè)溫度控制二極管中的相應(yīng)溫度控制二極管相對(duì)于所述相應(yīng)溫度控制射束的一個(gè)或多個(gè)射束特性是能夠單獨(dú)調(diào)節(jié)的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,包括:
控制器,所述控制器被構(gòu)造成控制由所述多個(gè)溫度控制二極管產(chǎn)生的所述溫度控制射束中的相應(yīng)溫度控制射束的一個(gè)或多個(gè)射束特性。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其特征在于,其中,能夠改變的所述一個(gè)或多個(gè)射束特性包括射束輪廓,輸出功率,強(qiáng)度和/或波長(zhǎng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述控制器被構(gòu)造成致動(dòng)所述多個(gè)溫度控制二極管中的一個(gè)或多個(gè),以產(chǎn)生所述多個(gè)溫度控制射束中的相應(yīng)一個(gè)或多個(gè),其中,所述溫度控制射束中的相應(yīng)溫度控制射束的一個(gè)或多個(gè)射束特性相對(duì)于位置和/或時(shí)間而變化。
11.根據(jù)權(quán)利要求8-10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其特征在于,包括:
檢測(cè)裝置,所述檢測(cè)裝置被構(gòu)造成檢測(cè)將被溫度控制的建造材料層的溫度,其中所述控制器被構(gòu)造成至少部分地基于指示已被所述檢測(cè)裝置檢測(cè)到的所述建造材料層的溫度的檢測(cè)信息來(lái)控制所述多個(gè)溫度控制二極管中的一個(gè)或多個(gè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其特征在于,其中,所述檢測(cè)裝置包括高溫計(jì)。
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