[發(fā)明專利]被動(dòng)聲吶多目標(biāo)方位跡提取方法、電子設(shè)備及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010530893.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111882585B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜可宇;蔡志明;姚直象;秦川 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)人民解放軍海軍工程大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06T7/262 | 分類號(hào): | G06T7/262;G06T7/136;G06F17/14;G06F17/16;G06F17/18 |
| 代理公司: | 北京力量專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11504 | 代理人: | 姚遠(yuǎn)方 |
| 地址: | 430033 湖北省武*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 被動(dòng) 聲吶 多目標(biāo) 方位 提取 方法 電子設(shè)備 計(jì)算機(jī) 可讀 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種被動(dòng)聲吶多目標(biāo)方位跡提取方法,其特征在于:包括如下步驟:
擴(kuò)展原始方位歷程圖像,獲取擴(kuò)展方位歷程圖像;
根據(jù)所選擇的窗口大小和窗口平移像素點(diǎn)數(shù),在擴(kuò)展方位歷程圖像上依次獲取系列窗口圖像,對(duì)各窗口圖像進(jìn)行Radon變換,獲得系數(shù)矩陣R;
將各矩陣R分塊;
提取各矩陣R中各分塊的峰值點(diǎn);
將獲取的各矩陣R峰值點(diǎn)歸一化,得到矩陣N;
對(duì)矩陣N反Radon變換,得到矩陣R中初始目標(biāo)方位跡,標(biāo)記為矩陣T;
對(duì)矩陣T進(jìn)行二值化處理,得到矩陣M;
根據(jù)窗口大小和窗口平移像素點(diǎn)數(shù),計(jì)算方位跡點(diǎn)檢測(cè)次數(shù)門(mén)限,依據(jù)方位跡點(diǎn)檢測(cè)次數(shù)門(mén)限凈化矩陣M,得到最終目標(biāo)方位跡;
從最終目標(biāo)方位跡圖像中截取原始方位歷程圖對(duì)應(yīng)部分,得到提取出來(lái)的多目標(biāo)方位跡;在對(duì)原始方位歷程圖像擴(kuò)展時(shí),依據(jù)圖像單邊擴(kuò)展長(zhǎng)度E、每個(gè)窗口圖像被覆蓋次數(shù)G、方向維平移像素點(diǎn)數(shù)Nb、窗口邊長(zhǎng)LW對(duì)寬度為H的原始方位歷程圖像進(jìn)行擴(kuò)展;其中H、E、G和Nb滿足以下關(guān)系:
E<LW
Nb≤[LW/G],表示取整
(H-LW)mod Nb=0
E=GNb;
設(shè)定窗口大小步驟為:以多數(shù)目標(biāo)方位跡直線或接近直線狀態(tài)下的持續(xù)像素點(diǎn)數(shù)為邊長(zhǎng),設(shè)定正方形窗口,設(shè)定正方形窗口邊長(zhǎng)LW;窗口平移參數(shù)包括時(shí)間維平移像素點(diǎn)數(shù)Nt和方向維平移像素點(diǎn)數(shù)Nb;其中,Nt≤LW,Nb≤LW,LW為窗口邊長(zhǎng);
將各矩陣R分塊過(guò)程:假設(shè)每個(gè)分塊矩陣有l(wèi)行c列,若矩陣R自身的行數(shù)或者列數(shù)不能整除l或c,則將矩陣R進(jìn)行適當(dāng)擴(kuò)展以能夠整除l或c,擴(kuò)展部分的值設(shè)定為0,然后再分塊,分塊為
當(dāng)提取完所有分塊矩陣中的峰值點(diǎn)后,再截取對(duì)應(yīng)部分;
采用雙門(mén)限法提取各矩陣R中各分塊的峰值點(diǎn);其中,雙門(mén)限包括差值門(mén)限V1與幅值門(mén)限V2;差值門(mén)限V1根據(jù)窗口邊長(zhǎng)和窗口子圖像均值確定,幅值門(mén)限V2根據(jù)窗口邊長(zhǎng)和方位歷程圖均值確定;雙門(mén)限提取峰值過(guò)程:
找到各分塊矩陣最大值Q1,計(jì)算得分塊矩陣平均值Q2;
對(duì)找到的最大值,判斷是否同時(shí)滿足Q1-Q2≥V1,Q1≥Q2,若滿足,保留最大值,若不滿足,則標(biāo)記為0。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被動(dòng)聲吶多目標(biāo)方位跡提取方法,其特征在于:在對(duì)矩陣T進(jìn)行二值化處理,得到矩陣M后,將二值化處理得到的系數(shù)矩陣M疊加存放。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被動(dòng)聲吶多目標(biāo)方位跡提取方法,其特征在于:方位跡點(diǎn)檢測(cè)次數(shù)門(mén)限為T(mén)h=[LW/Nb]+[LW/Nt],表示取整,LW為窗口邊長(zhǎng),Nt和Nb分別為時(shí)間維和方向維平移像素點(diǎn)數(shù),對(duì)矩陣M中的元素Mij進(jìn)行判斷,若Mij小于Th,則令Mij=0。
4.一種電子設(shè)備,其特征在于:包括存儲(chǔ)器和處理器,所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法中的步驟。
5.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于:所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法的步驟。
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