[發(fā)明專利]相干層析系統(tǒng)及其參考波前校正方法、裝置及設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010530583.4 | 申請日： | 2020-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN111543959B | 公開（公告）日： | 2021-05-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 安其昌;劉欣悅;張景旭;李洪文 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | A61B5/00 | 分類號： | A61B5/00;G02B26/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 薛嬌 |
| 地址： | 130033 吉林省長春市*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 相干 層析 系統(tǒng) 及其 參考 校正 方法 裝置 設(shè)備 | ||
1.一種光學相干層析成像系統(tǒng)，包括光源、干涉儀和光電探測器，其特征在于，還包括控溫裝置，所述干涉儀中的參考臂包括球面反射鏡；
其中，所述球面反射鏡背面貼合設(shè)置膠墊；所述膠墊背離所述球面反射鏡的表面均勻設(shè)置有多個加熱片；各個所述加熱片和所述控溫裝置相連接；
所述控溫裝置用于根據(jù)所述光電探測器采集到的干涉條紋對比度控制各個所述加熱片加熱，所述球面反射鏡受熱形變，以使所述光電探測器探測到的干涉條紋對比度達到預(yù)定對比度。
2.如權(quán)利要求1所述的光學相干層析成像系統(tǒng)，其特征在于，所述球面反射鏡為K9玻璃鍍鋁膜反射鏡。
3.如權(quán)利要求1所述的光學相干層析成像系統(tǒng)，其特征在于，所述膠墊為RTV膠墊。
4.如權(quán)利要求3所述的光學相干層析成像系統(tǒng)，其特征在于，所述膠墊的厚度滿足：，其中，t為所述RTV膠墊的厚度，為所述球面反射鏡的半徑，為所述加熱片熱膨脹系數(shù)， 為所述球面反射鏡的熱膨脹系數(shù)，為受載情況下所述RTV膠墊的熱膨脹系數(shù)。
5.如權(quán)利要求1所述的光學相干層析成像系統(tǒng)，其特征在于，所述加熱片為銅片或鋁片。
6.一種光學相干層析成像系統(tǒng)的參考波前校正方法，其特征在于，應(yīng)用于如權(quán)利要求1至5任一項所述的光學相干層析成像系統(tǒng)，包括：
根據(jù)光電探測器探測到的干涉條紋，獲得干涉條紋對比度；
根據(jù)所述干涉條紋對比度確定各個加熱片的加熱功率；
根據(jù)所述加熱功率對各個所述加熱片進行加熱，并重復執(zhí)行所述根據(jù)光電探測器探測到的干涉條紋，獲得干涉條紋對比度的步驟，直到干涉條紋對比度達到預(yù)設(shè)對比度。
7.如權(quán)利要求6所述的光學相干層析成像系統(tǒng)的參考波前校正方法，其特征在于，根據(jù)所述干涉條紋對比度確定各個加熱片的加熱功率，包括：
預(yù)先采集每個所述加熱片的不同加熱功率對應(yīng)的所述球面反射鏡的干涉條紋對比度數(shù)據(jù)；
根據(jù)各個所述加熱片的不同加熱功率以及所述加熱功率對應(yīng)的干涉條紋對比度數(shù)據(jù)，基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)學習，確定各個不同加熱功率和干涉條紋對比度之間的對應(yīng)關(guān)系；
根據(jù)所述對應(yīng)關(guān)系和當前的所述干涉條紋對比度，確定各個所述加熱片的加熱功率。
8.如權(quán)利要求6所述的光學相干層析成像系統(tǒng)的參考波前校正方法，其特征在于，根據(jù)所述干涉條紋對比度確定各個加熱片的加熱功率，包括：
預(yù)先基于平行梯度下降算法，確定加熱功率公式為：
，其中，為第n+1次第i個加熱片加熱的加熱功率，為第n次第i個加熱片加熱的加熱功率，為第n次加熱后對比度的變化值，為第n次第i個加熱片加熱的加熱功率變化值；
根據(jù)所述加熱功率確定各個所述加熱片的加熱功率。
9.一種光學相干層析成像系統(tǒng)的參考波前校正裝置，其特征在于，應(yīng)用于如權(quán)利要求1至5任一項所述的光學相干層析成像系統(tǒng)，包括：
對比度采集模塊，用于根據(jù)光電探測器探測到的干涉條紋，獲得干涉條紋對比度；
確定功率模塊，用于根據(jù)所述干涉條紋對比度確定各個加熱片的加熱功率；
控制加熱模塊，用于根據(jù)所述加熱功率對各個所述加熱片進行加熱，并重復執(zhí)行采集光電探測器探測到的干涉條紋對比度的步驟，直到所述光電探測器探測到的干涉條紋對比度達到預(yù)設(shè)對比度。
10.一種光學相干層析成像系統(tǒng)的參考波前校正設(shè)備，其特征在于，應(yīng)用于如權(quán)利要求1至5任一項所述的光學相干層析成像系統(tǒng)，包括：
存儲器，用于存儲計算機程序；
處理器，用于執(zhí)行所述計算機程序，以實現(xiàn)如權(quán)利要求6至8任一項所述的光學相干層析成像系統(tǒng)的參考波前校正方法的操作步驟。
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