[發明專利]測量視線受阻構件定位坐標的方法在審
| 申請號: | 202010529795.0 | 申請日: | 2020-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN111551115A | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發明(設計)人: | 李奧然;許亮;曾憲義 | 申請(專利權)人: | 中國二十二冶集團有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/00 | 分類號: | G01B11/00;G01B21/00;G01C15/00 |
| 代理公司: | 唐山永和專利商標事務所 13103 | 代理人: | 魏偉 |
| 地址: | 063000 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 視線 受阻 構件 定位 標的 方法 | ||
1.一種測量視線受阻構件定位坐標的方法,包括如下措施和施工過程:
1)預設構件上的測量點;
2)在測量點和全站儀旁邊架設一面垂直于水平面的鋁鏡,調整鏡面角度,使全站儀視角能夠直接觀測到被測構件的鏡像,構件上的測量點反射到鏡中為鏡像點;
3)以全站儀為坐標原點,建立水平面上投影的測量坐標系;
4)通過全站儀測量鏡面上至少兩個點的坐標,計算得到鋁鏡投影在測量坐標系中所在直線的公式;
5)通過全站儀測量鏡像點的坐標并記錄;
6)根據鏡面的投影直線的公式,聯立測量點和鏡像點關系,計算得到測量點投影在測量坐系中的坐標數據;
7)測量全站儀在施工現場上的坐標值,從而推算出測量點的實際坐標值。
2.根據權利要求1所述測量視線受阻構件定位坐標的方法,其特征是:鋁鏡通過三腳架架設或者采用磁吸支座固定在已有構件上。
3.根據權利要求1所述測量視線受阻構件定位坐標的方法,其特征是:計算二維平面坐標系中測量點坐標的過程是:
1)設:測量點為A,鏡像點為B;
設:A的坐標為(a,b),B的坐標為(c,d);
2)A、B基于鏡面所在直線L對稱,則A-B連線的中點坐標為((a+c)/2,(b+d)/2),且此點在己知直線L上;
3)將點((a+c)/2,(b+d)/2)代入己知直線L的方程,可以得到一個關于a、b的二元一次方程式(1):
4)又因為A-B連線與直線L垂直相交,兩直線的斜率相乘積為-1,即k1*k2=-1,其中直線L的斜率k1已知,則直線A-B的斜率k2為:k2=-1/k1;
5)把A、B兩點坐標代入直線斜率公式:k2=(b-d)/(a-c)=-1/k1,得到一個關于a,b的二元一次方程(2):
6)聯立二元一次方程(1)、(2),得二元一次方程組,解得a、b值,即所求測量點A的坐標(a,b)。
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