[發明專利]一種基于半導體制冷的攝像用耐高溫輔助光源在審
| 申請號： | 202010529506.7 | 申請日： | 2020-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN111679533A | 公開（公告）日： | 2020-09-18 |
| 發明（設計）人： | 賀新民;李華爍;史凡 | 申請（專利權）人： | 中國礦業大學 |
| 主分類號： | G03B15/03 | 分類號： | G03B15/03;F21V29/54 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 221116 江蘇省徐州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 半導體 制冷 攝像 耐高溫 輔助 光源 | ||
【權利要求書】：
1.一種基于半導體制冷的攝像用耐高溫輔助光源，主要由內部光源、主體機殼、隔熱板、散熱器、儲能擴散器、半導體制冷片組成，其特征在于，所述隔熱板中裝有所述半導體制冷片，其制冷和制熱面分別置于隔熱板的兩面，制熱面上裝有所述散熱器，制冷面上裝有所述儲能擴散器，所述內部光源置于所述主體機殼內部。
2.如權利要求1所述一種基于半導體制冷的攝像用耐高溫輔助光源，其特征在于，所述半導體制冷片利用帕爾貼效應制冷，所述半導體制冷片可以采用單片或多片并聯，所述主體機殼為長方體結構，機殼上有兩塊隔熱板，隔熱板對稱分布在機殼的兩側壁上，置于機殼內壁的兩個半導體制冷端空氣對流，制冷效果更好。
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