[發(fā)明專利]顯示面板的制備方法及顯示裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010529175.7
• 申請(qǐng)日: 2020-06-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111725438A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L51/56
• 分類號(hào): H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 何輝

1.一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板包括非顯示區(qū)和與所述非顯區(qū)相鄰的顯示區(qū)，其特征在于，包括如下步驟：

S100：將襯底基板清洗干凈，并在高溫下對(duì)所述襯底基板進(jìn)行處理；

S101：在所述步驟S100處理后的所述襯底基板上設(shè)置至少一無(wú)機(jī)層，并固化處理；

S103：在無(wú)機(jī)層上制備第一膜層，并固化；

S104：在所述非顯示區(qū)對(duì)應(yīng)的所述第一膜層上挖孔，并在所述孔內(nèi)填充透明膜層，并固化所述透明膜層；

S105：將所述透明膜層平整處理，得到所述顯示面板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述步驟S100中，所述襯底基板的處理溫度為200℃～1000℃，處理時(shí)間為5min～10min。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，通過(guò)旋涂成膜工藝制備所述第一膜層或所述透明膜層，并重復(fù)多次，得到所需厚度的所述第一膜層或所述透明膜層。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，在500℃下對(duì)所述透明膜層進(jìn)行處理。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述透明膜層的光透過(guò)率大于所述第一膜層的光透過(guò)率，所述第一膜層包括聚酰亞胺膜層，所述透明膜層包括透明聚酰亞胺膜層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述透明聚酰亞胺膜層在可見(jiàn)光下的光透過(guò)率不小于85％，所述透明聚酰亞胺膜層在400nm波長(zhǎng)下的光透過(guò)率不小于40％。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，在200℃～500℃溫度下對(duì)所述無(wú)機(jī)層進(jìn)行固化處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述無(wú)機(jī)層的材料包括含硅的無(wú)機(jī)材料，所述無(wú)機(jī)層的厚度為1nm～1000nm。

9.一種顯示裝置，其特征在于，包括顯示區(qū)和與所述顯示區(qū)相鄰的非顯示區(qū)，所述顯示裝置包括：

襯底基板；

無(wú)機(jī)層，所述無(wú)機(jī)層設(shè)置在所述襯底基板上；

第一膜層，所述第一膜層設(shè)置在所述顯示區(qū)內(nèi)且設(shè)置在所述無(wú)機(jī)層上；以及

透明膜層，所述透明膜層設(shè)置在所述非顯示區(qū)內(nèi)且設(shè)置在所述無(wú)機(jī)層上；

其中，所述透明膜層的光透過(guò)率大于所述第一膜層的光透過(guò)率。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，所述第一膜層的材料包括聚酰亞胺，所述透明膜層的材料包括透明聚酰亞胺。