[發明專利]陣列基板及其制備方法、柔性顯示面板在審
| 申請號: | 202010528745.0 | 申請日: | 2020-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN111682028A | 公開(公告)日: | 2020-09-18 |
| 發明(設計)人: | 白青;陳闖 | 申請(專利權)人: | 合肥維信諾科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L23/00;H01L21/84;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606 | 代理人: | 方曉燕 |
| 地址: | 230000 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 及其 制備 方法 柔性 顯示 面板 | ||
1.一種陣列基板,包括顯示區域,所述顯示區域包括用于設置像素單元的呈陣列分布的像素區和位于像素區之間的非像素區,其特征在于,所述陣列基板包括:
襯底基板;
無機膜層,所述無機膜層設置于襯底基板的一側;至少部分所述非像素區內,所述無機膜層開設有凹槽,所述凹槽內設置的有機物層。
2.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,相鄰兩列所述像素區之間的所述非像素區設置有所述凹槽,所述凹槽沿所述陣列基板的長度方向延伸,和/或,所述凹槽設置有沿所述陣列基板的寬度方向延伸。
3.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,至少任意兩個所述像素區域之間的所述非像素區設置有所述凹槽;所述凹槽在所述顯示區域均勻分布。
4.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述凹槽沿垂直于所述陣列基板的方向貫穿所述無機膜層。
5.根據權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述有機物層的楊氏模量小于所述無機膜層的楊氏模量。
6.一種陣列基板的制備方法,所述陣列基板包括顯示區域,所述顯示區域包括用于設置像素單元的呈陣列分布的像素區和位于像素區之間的非像素區,其特征在于,所述制備方法包括:
提供襯底基板;
在所述襯底基板的一側形成無機膜層;
在至少部分所述非像素區內,所述無機膜層遠離所述襯底基板的一側開設凹槽;
在所述凹槽內設置有機物層。
7.根據權利要求6所述的陣列基板的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
在所述無機膜層遠離所述襯底基板的一側開設貫穿所述無機膜層的凹槽,所述凹槽靠近所述襯底基板一端的截面寬度小于所述凹槽遠離所述襯底基板一端的截面寬度。
8.根據權利要求6所述的陣列基板的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
使所述有機物層遠離所述襯底基板的一側表面與所述無機膜層遠離所述襯底基板的一側表面平齊。
9.根據權利要求6所述的陣列基板的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
在所述無機膜層遠離所述襯底基板的一側依次設置平坦化層、像素定義層、支撐柱和薄膜封裝層。
10.一種柔性顯示面板,其特征在于,包括權利要求1-5任一項所述的陣列基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





