[發(fā)明專利]訓(xùn)練方法、圖像編輯方法、裝置及電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010528653.2
• 申請(qǐng)日: 2020-06-11
• 公開（公告）號(hào): CN111667014B
• 公開（公告）日: 2022-12-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 翟波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 重慶紫光華山智安科技有限公司
• 主分類號(hào): G06V10/774
• 分類號(hào): G06V10/774;G06V10/74;G06V10/82;G06N3/04
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 張磊

本申請(qǐng)?zhí)峁┑挠?xùn)練方法、圖像編輯方法、裝置及電子設(shè)備。在該訓(xùn)練方法中，由于用于訓(xùn)練的第二樣本圖像獲取自隱藏了特定圖像信息的第一樣本圖像，因此，第二樣本圖像與第一樣本圖像之間的區(qū)別僅在于該標(biāo)識(shí)圖案的位置處。該電子設(shè)備將第一樣本圖像作為機(jī)器學(xué)習(xí)模型訓(xùn)練過程中的參考目標(biāo)，訓(xùn)練該機(jī)器學(xué)習(xí)模型根據(jù)該標(biāo)識(shí)圖案之外的圖像信息在標(biāo)識(shí)圖案的位置生成特定圖像信息的過程中，使得生成的特定圖像信息能夠與標(biāo)識(shí)圖案之外的圖像信息的風(fēng)格保持一致，進(jìn)而能夠減少圖像失真。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及數(shù)據(jù)處理領(lǐng)域，具體而言，涉及一種訓(xùn)練方法、圖像編輯方法、裝置及電子設(shè)備。

背景技術(shù)

由于卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)之類的機(jī)器學(xué)習(xí)模型，在進(jìn)行圖像處理過程時(shí)，能夠降低數(shù)據(jù)處理過程中的計(jì)算量，因此，卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)之類的機(jī)器學(xué)習(xí)模型經(jīng)常用于進(jìn)行圖像識(shí)別處理。目前，在通過卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)之類的機(jī)器學(xué)習(xí)模型在對(duì)圖像中的目標(biāo)局部區(qū)域進(jìn)行編輯時(shí)，該機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)目標(biāo)局部區(qū)域之外的圖像內(nèi)容可能會(huì)產(chǎn)生或多或少的影響，繼而會(huì)導(dǎo)致圖片內(nèi)容失真的情況。

發(fā)明內(nèi)容

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的至少一個(gè)不足，本申請(qǐng)的目的之一在于提供一種訓(xùn)練方法，應(yīng)用于電子設(shè)備，所述電子設(shè)備中配置有未訓(xùn)練好的機(jī)器學(xué)習(xí)模型，所述方法包括：

獲取顯示有特定圖像信息的第一樣本圖像，以及將所述特定圖像信息隱藏后的第二樣本圖像，其中，所述第二樣本圖像中，隱藏所述特定圖像信息的位置標(biāo)記有標(biāo)識(shí)圖案；

在所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型訓(xùn)練過程中，將所述第一樣本圖像作為所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型的參考目標(biāo)，訓(xùn)練所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)所述標(biāo)識(shí)圖案的位置進(jìn)行編輯，使得訓(xùn)練好的機(jī)器學(xué)習(xí)模型能夠在所述標(biāo)識(shí)圖案的位置生成所述特定圖像信息。

可選地，所述將所述第一樣本圖像作為所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型的參考目標(biāo)，訓(xùn)練所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)所述標(biāo)識(shí)圖案的位置進(jìn)行編輯的位置的步驟，包括：

將所述第二樣本圖像輸入所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型，在所述標(biāo)識(shí)圖案的位置生成編輯圖像信息；

根據(jù)所述編輯圖像信息以及所述第二樣本圖像中除所述標(biāo)識(shí)圖案之外的圖像信息生成合成圖像，其中，所述合成圖像包括所述編輯圖像信息以及所述第二樣本圖像中除所述標(biāo)識(shí)圖案之外的圖像信息，且與所述第一樣本圖像的尺寸相同；

獲取所述合成圖像與所述第一樣本圖像之間的相似程度；

檢測(cè)所述相似程度是否超過預(yù)設(shè)相似閾值；

若所述相似程度未超過預(yù)設(shè)相似閾值，則根據(jù)所述相似程度調(diào)整所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型的權(quán)值后，轉(zhuǎn)至將所述第二樣本圖像輸入所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型，在所述標(biāo)識(shí)圖案的位置生成編輯圖像信息的步驟；

若所述相似程度超過預(yù)設(shè)相似閾值，則獲得所述訓(xùn)練好的機(jī)器學(xué)習(xí)模型。

可選地，所述電子設(shè)備還配置有對(duì)照模型，所述獲取所述合成圖像與所述第一樣本圖像之間的相似程度的步驟，包括：

通過所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型的第一損失函數(shù)，獲得所述合成圖像與所述第一樣本圖像之間的第一誤差值；

通過所述對(duì)照模型對(duì)所述合成圖像與所述第一樣本圖像之間的相似度進(jìn)行校驗(yàn)，獲得所述合成圖像與所述第一樣本圖像之間的第二誤差值；

根據(jù)所述第一誤差值與所述第二誤差值獲得所述相似程度。

可選地，所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型包括第一卷積層、空洞卷積層以及第二卷積層，所述將所述第二樣本圖像輸入所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型，在所述標(biāo)識(shí)圖案的位置生成編輯圖像信息的步驟，包括：

將所述第二樣本圖像輸入所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型中，依次經(jīng)所述第一卷積層、所述空洞卷積層以及所述第二卷積層處理，在所述標(biāo)識(shí)圖案的位置生成編輯圖像信息。