[發(fā)明專利]用于控制開(kāi)采機(jī)的系統(tǒng)和方法、開(kāi)采設(shè)備、存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010527719.6
• 申請(qǐng)日: 2016-05-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111663943B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-07-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大衛(wèi)·查爾斯·里德;喬納松·凱里·羅爾斯頓;查德·歐文·哈格雷夫;M·T·杜恩;P·B·里德;J·P·湯普遜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 聯(lián)邦科學(xué)和工業(yè)研究組織
• 主分類號(hào): E21C35/08
• 分類號(hào): E21C35/08;E21D9/10
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 王小東;黃綸偉

1.一種用于控制開(kāi)采機(jī)的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：

(i)至少2D坐標(biāo)位置確定裝置，該至少2D坐標(biāo)位置確定裝置用于確定以下項(xiàng)在空間中的絕對(duì)坐標(biāo)位置：

所述開(kāi)采機(jī)；和/或

軌道，所述開(kāi)采機(jī)的回采裝置沿著該軌道從一側(cè)到另一側(cè)橫切穿過(guò)礦層的開(kāi)采面，

所述絕對(duì)坐標(biāo)位置沿著礦層的開(kāi)采面在所述開(kāi)采機(jī)和/或所述軌道的多個(gè)位置中的每個(gè)位置處確定；

(ii)至少一個(gè)坐標(biāo)基準(zhǔn)點(diǎn)，各坐標(biāo)基準(zhǔn)點(diǎn)各提供至少2D坐標(biāo)位置，其中，各坐標(biāo)基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置在主采區(qū)順槽和/或尾采區(qū)順槽處；

(iii)用于收集礦層數(shù)據(jù)的一個(gè)或更多個(gè)傳感器，其中，通過(guò)從與所述至少2D坐標(biāo)位置確定裝置組合的所述一個(gè)或更多個(gè)傳感器檢測(cè)到的標(biāo)識(shí)特征并參照所述至少一個(gè)坐標(biāo)基準(zhǔn)點(diǎn)生成至少一個(gè)輔基準(zhǔn)點(diǎn)；以及

(iv)處理器，該處理器被連接以接收與以下項(xiàng)相關(guān)的數(shù)據(jù)：所確定的所述開(kāi)采機(jī)和/或所述軌道的絕對(duì)坐標(biāo)位置、所述至少一個(gè)坐標(biāo)基準(zhǔn)點(diǎn)和所述至少一個(gè)輔基準(zhǔn)點(diǎn)，

其中，參照所述至少一個(gè)輔基準(zhǔn)點(diǎn)來(lái)校正與所確定的所述開(kāi)采機(jī)和/或所述軌道的所述絕對(duì)坐標(biāo)位置相關(guān)的數(shù)據(jù)，并且其中，所述處理器被連接以產(chǎn)生進(jìn)一步信號(hào)，該進(jìn)一步信號(hào)用于：

a.啟動(dòng)開(kāi)采機(jī)致動(dòng)器或軌道致動(dòng)器以使所述開(kāi)采機(jī)或軌道朝所述礦層移動(dòng)，從而基于所述開(kāi)采機(jī)或所述軌道的校正后的絕對(duì)坐標(biāo)位置朝所述礦層將所述開(kāi)采機(jī)或軌道移位或嘗試移位一段距離，以取得預(yù)期截割曲線的坐標(biāo)位置；和/或

b.啟動(dòng)回采裝置致動(dòng)器以使所述回采裝置朝礦層邊界移動(dòng)，以基于所述開(kāi)采機(jī)或所述軌道的校正后的絕對(duì)坐標(biāo)位置朝所述礦層邊界將所述回采裝置移位或嘗試移位一段距離，以取得預(yù)期截割曲線的坐標(biāo)位置，

所述處理器通過(guò)所述開(kāi)采機(jī)致動(dòng)器、所述軌道致動(dòng)器、所述回采裝置致動(dòng)器中的至少一個(gè)致動(dòng)器來(lái)操作，因而所述回采裝置將截割或嘗試截割到所述預(yù)期截割曲線。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述標(biāo)識(shí)特征是礦層特征。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，所述標(biāo)識(shí)特征包括所述礦層的自然發(fā)生的特征或所述礦層的人為構(gòu)造的特征。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，所述礦層特征包括標(biāo)志帶的一部分。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，所述礦層特征包括地質(zhì)斷層。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，所述礦層特征包括通過(guò)其與所述回采裝置的相互作用而形成的所述礦層的幾何構(gòu)造。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述標(biāo)識(shí)特征位于所述礦層的所述開(kāi)采面上方或下方，或者位于所述尾采區(qū)順槽和/或所述主采區(qū)順槽的壁或頂部上方或下方。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述標(biāo)識(shí)特征包括：在開(kāi)采過(guò)程期間引入的人工標(biāo)識(shí)特征。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述標(biāo)識(shí)特征包括幾何上隔開(kāi)的多個(gè)幾何標(biāo)識(shí)特征或地質(zhì)標(biāo)識(shí)特征。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述地質(zhì)標(biāo)識(shí)特征包括標(biāo)志帶。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述幾何標(biāo)識(shí)特征包括所述開(kāi)采面與所述尾采區(qū)順槽或所述主采區(qū)順槽的交叉。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述預(yù)期截割曲線沿著所述礦層的開(kāi)采面或者沿著所述尾采區(qū)順槽或所述主采區(qū)順槽。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述一個(gè)或更多個(gè)傳感器從由紅外線IR傳感器、視覺(jué)照相機(jī)、激光測(cè)距儀傳感器、探地探針、密度計(jì)以及伽馬射線發(fā)射檢測(cè)器組成的組選擇。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)坐標(biāo)基準(zhǔn)點(diǎn)為3D坐標(biāo)位置。