[發(fā)明專利]一種精確測定大氣顆粒物采樣膜沉積面積的裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010527394.1 | 申請日: | 2020-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN111578869A | 公開(公告)日: | 2020-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳晟;孫嘉胤;吳兌;李梅;周振;梁粵;成春雷;程鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 暨南大學(xué) |
| 主分類號: | G01B11/28 | 分類號: | G01B11/28;G01N15/04 |
| 代理公司: | 廣州市華學(xué)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245 | 代理人: | 詹麗紅 |
| 地址: | 510632 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 精確 測定 大氣 顆粒 采樣 沉積 面積 裝置 方法 | ||
1.一種精確測定大氣顆粒物采樣膜沉積面積的裝置,其特征在于,所述的裝置包括依次順序連接的樣品采集模塊、樣品掃描模塊、圖像分析顯示模塊,其中,
所述的樣品采集模塊通過顆粒物采樣器采集大氣顆粒物的濾膜樣品;
所述的樣品掃描模塊通過掃描儀將同時放置在掃描儀上的濾膜樣品和標(biāo)尺進行掃描得到掃描圖片;
所述的圖像分析顯示模塊對掃描圖片以像素為單位進行測量并顯示。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種精確測定大氣顆粒物膜采樣膜沉積面積的裝置,其特征在于,所述的標(biāo)尺為精度0.1mm的顯微鏡標(biāo)尺。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種精確測定大氣顆粒物膜采樣膜沉積面積的裝置,其特征在于,所述的掃描儀得到的掃描圖片的分辨率高于2400dpi。
4.一種精確測定大氣顆粒物采樣膜沉積面積的方法,其特征在于,所述的方法包括下列步驟:
樣品采集模塊通過顆粒物采樣器采集大氣顆粒物的濾膜樣品;
將采集得到的濾膜樣品放到掃描儀上,同時對應(yīng)放置表征刻度的標(biāo)尺,使用掃描儀進行高分辨率掃描得到掃描圖片;
圖像分析顯示模塊使用圖像分析軟件對濾膜的圖像進行分析,使用圖像分析軟件的測量功能對標(biāo)尺的長度所對應(yīng)的像素值進行測量,得出毫米單位與像素單位的轉(zhuǎn)換關(guān)系進而計算出1mm2范圍內(nèi)包含的像素值;
圖像分析顯示模塊通過圖像分析軟件測量得到濾膜和沉積物區(qū)域的像素值,進而計算出濾膜和沉積物區(qū)域的面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種精確測定大氣顆粒物采樣膜沉積面積的方法,其特征在于,所述的圖像分析顯示模塊使用圖像分析軟件對濾膜的圖像進行分析,使用圖像分析軟件的測量功能對標(biāo)尺的長度所對應(yīng)的像素值進行測量,得出毫米單位與像素單位的轉(zhuǎn)換關(guān)系的過程如下:
使用圖像分析軟件的測量功能對標(biāo)尺進行測量,所用到的標(biāo)尺是顯微鏡標(biāo)尺,圖像分析軟件的測量功能測量出圖像上一段長度所包含的像素個數(shù),通過圖像分析軟件的測量功能對標(biāo)尺的刻度線進行測量,觀察所得到的像素個數(shù),標(biāo)尺的長度值在這一圖像中對應(yīng)的像素個數(shù),進行多次測量求取平均值,進而計算出1mm2范圍內(nèi)所包含的像素值。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種精確測定大氣顆粒物采樣膜沉積面積的方法,其特征在于,所述的圖像分析顯示模塊通過圖像分析軟件測量得到濾膜和沉積物區(qū)域的像素值的過程如下:
使用圖像分析軟件的圖像所需區(qū)域圈選功能分別圈出濾膜和沉積面積的區(qū)域,并顯示出所選區(qū)域的像素值。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種精確測定大氣顆粒物采樣膜沉積面積的方法,其特征在于,所述的圖像分析顯示模塊通過圖像分析軟件計算出濾膜和沉積物區(qū)域的面積的過程如下:
依據(jù)圖像分析軟件的圖像所需區(qū)域圈選功能顯示所選區(qū)域的像素值之后,根據(jù)標(biāo)尺計算出1mm2范圍內(nèi)對應(yīng)的像素值,用所選區(qū)域的像素值除以1mm2對應(yīng)的像素值,從而計算出濾膜和沉積物的面積,每個濾膜樣本需要測量5次以上,再計算得到平均值。
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