[發明專利]一種精餾釜殘的凈化處理方法

有效

• 申請號: 202010525856.6
• 申請日: 2020-06-10
• 公開（公告）號: CN111672317B
• 公開（公告）日: 2022-04-29
• 發明（設計）人: 喬旭;崔咪芬;陳獻;費兆陽;劉清;朱建軍;張錦山;周哲;徐希化
• 申請（專利權）人: 南京工業大學;南京資環工程技術研究院有限公司;南通市天時化工有限公司
• 主分類號: B01D53/86
• 分類號: B01D53/86;B01D53/44;B01J23/10;B01J23/26;B01J23/34;B01J29/14;B01J29/16;B01J29/18;B01J29/24
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司 32218
• 代理人: 徐冬濤;邢賢冬

1.一種精餾釜殘的凈化處理方法，其特征在于包括：臥式臨氧裂解裝置處于連續旋轉的狀態，精餾釜殘進入臨氧裂解裝置后，在空氣氣氛以及臨氧裂解催化劑的存在下進行臨氧裂解氧化處理，裂解氧化處理產生的含有機物的氣體進入催化氧化裝置進行催化氧化處理；

其中，所述的精餾釜殘的平均分子量不低于10000 kg/kmol，且精餾釜殘中的任一元素經過臨氧裂解后形成的氧化物的沸點或升華點不高于400℃；

所述的精餾釜殘以0.5～1噸_釜殘/(噸_催化劑·h)的速率進入臨氧裂解裝置使得精餾釜殘被翻滾流動的催化劑完全包埋，同時以15000～25000 m³/(噸_釜殘·h) 的速率通入的空氣；

所述的臨氧裂解催化劑是由具有堿性的氧化物和具有氧化性的氧化物負載于載體上制備所得；具有堿性的氧化物的負載量為1～5wt%，具有氧化性的氧化物的負載量為5～25wt%；所述的具有堿性的氧化物為氧化鈣、氧化鎂、氧化鈹或氧化鋇中的一種，所述的具有氧化性的氧化物為氧化銅、氧化鉻、氧化釩、氧化鈦、氧化鈰、氧化錳、氧化鈷中的一種；所述的載體是氧化鋁、HY分子篩或絲光沸石；

所述的臨氧裂解氧化處理的溫度為450～550 ℃。

2.根據權利要求1所述的精餾釜殘的凈化處理方法，其特征在于所述的臨氧裂解催化劑粒徑為1～200 微米。

3.根據權利要求1所述的精餾釜殘的凈化處理方法，其特征在于臨氧裂解裝置出口氣體中有機物的含量為500～5000 mg/m³。

4.根據權利要求1所述的精餾釜殘的凈化處理方法，其特征在于含有機物的氣體以10000～30000 h^-1的體積空速進入催化氧化裝置，催化氧化反應溫度為250～450 ℃。

5.根據權利要求1所述的精餾釜殘的凈化處理方法，其特征在于催化氧化處理采用的催化劑為臨氧裂解催化劑經過機械成型后的催化劑或催化燃燒催化劑。

6.根據權利要求1或4所述的精餾釜殘的凈化處理方法，其特征在于催化氧化裝置出口氣體中有機物的含量為0～50 mg/m³。