[發明專利]發聲裝置

有效

• 申請號: 202010525370.2
• 申請日: 2020-06-10
• 公開（公告）號: CN112203175B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發明（設計）人: 梁振宇;陳磊;馬丁·喬治·林
• 申請（專利權）人: 知微電子有限公司
• 主分類號: H04R1/02
• 分類號: H04R1/02;H04R7/02;H04R19/02
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王天堯;湯在彥

1.一種發聲裝置，其特征在于，包括：

至少一空氣脈沖產生元件，每個所述至少一空氣脈沖產生元件包括：

一振膜；

一第一音腔，其中一腔體壓力存在于所述第一音腔中；以及

至少一開口，連接在所述第一音腔與所述發聲裝置周圍的一環境之間；

其中所述振膜被致動以改變所述第一音腔的所述腔體壓力以產生多個空氣脈沖，所述多個空氣脈沖通過所述至少一開口而傳播，所述多個空氣脈沖在聲壓位準方面產生一非零偏移，且所述非零偏移是相對于所述發聲裝置外的一環境壓力的一壓力值的一偏差；

其中所述至少一開口包括一第一開口，所述第一開口的直徑或寬度小于或等于所述第一開口的一邊界層的一邊界層厚度的5倍。

2.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，所述至少一開口的其中一個對應所述振膜的中心。

3.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，所述至少一開口的其中一個對應所述振膜的一區域，且所述振膜的所述區域具有大于一閾值的位移量。

4.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，每個所述空氣脈沖具有一脈沖周期，所述振膜的一最大位移位置被定義為所述振膜在所述脈沖周期的其中一個中以一最大位移量移動的位置，且所述至少一開口的其中一個對應所述振膜的所述最大位移位置。

5.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，在俯視上，包含所有所述至少一開口的一最小區域的中心對應所述振膜的中心。

6.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，在俯視上，包含所有所述至少一開口的一最小區域對應所述振膜的一區域，且所述振膜的所述區域具有大于一閾值的位移量。

7.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，每個所述空氣脈沖具有一脈沖周期，所述振膜的一最大位移位置被定義為所述振膜在所述脈沖周期的其中一個中以一最大位移量移動的位置，且包含所有所述至少一開口的一最小區域的中心在俯視上對應所述振膜的所述最大位移位置。

8.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，所述振膜具有所述至少一開口。

9.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，所述至少一開口包括一通孔。

10.如權利要求9所述的發聲裝置，其特征在于，所述通孔具有一直徑，所述直徑小于或等于所述通孔的一邊界層的一邊界層厚度的5倍。

11.如權利要求10所述的發聲裝置，其特征在于，所述通孔的面積的至少一半在所述通孔的所述邊界層內。

12.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，流通過所述至少一開口的一氣流的平均速度小于所述氣流的自由氣流速度的0.3倍。

13.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，所述至少一開口包括一狹縫。

14.如權利要求13所述的發聲裝置，其特征在于，所述狹縫的寬度為0.5微米至5微米。

15.如權利要求1所述的發聲裝置，其特征在于，所述至少一開口包括多個開口。

16.如權利要求15所述的發聲裝置，其特征在于，所述振膜具有所述多個開口，所述多個開口的其中一個為一通孔，且所述多個開口的其中另一個為一狹縫。

17.如權利要求16所述的發聲裝置，其特征在于，所述狹縫連接于所述振膜的一角落。

18.如權利要求16所述的發聲裝置，其特征在于，所述狹縫連接于所述通孔。