[發明專利]指紋感測模塊在審
| 申請號： | 202010521785.2 | 申請日： | 2020-06-10 |
| 公開（公告）號： | CN111488864A | 公開（公告）日： | 2020-08-04 |
| 發明（設計）人： | 范成至;周正三 | 申請（專利權）人： | 神盾股份有限公司 |
| 主分類號： | G06K9/00 | 分類號： | G06K9/00 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 張娜;臧建明 |
| 地址： | 中國臺灣臺北*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 指紋 模塊 | ||
1.一種指紋感測模塊，其特征在于，包括：
圖像傳感器，包括多個排成陣列的光感測區及配置于所述多個光感測區周圍的電路區；
遮光層，配置于所述電路區上，且暴露出所述多個光感測區；以及
準直器，配置于所述圖像傳感器與所述遮光層上，其中所述準直器將來自外界的光導引至所述圖像傳感器，其中，所述遮光層阻擋所述光傳遞至所述電路區。
2.根據權利要求1所述的指紋感測模塊，其特征在于，所述準直器具有多個彼此分離的光通道，每一光通道被遮光體所圍繞，且從所述準直器的遠離所述圖像傳感器的一側往靠近所述圖像傳感器的一側延伸。
3.根據權利要求1所述的指紋感測模塊，其特征在于，所述準直器為透鏡陣列。
4.根據權利要求1所述的指紋感測模塊，其特征在于，還包括透光保護層，覆蓋所述遮光層與所述多個光感測區。
5.根據權利要求1所述的指紋感測模塊，其特征在于，所述遮光層為吸光層或光反射層。
6.根據權利要求1所述的指紋感測模塊，其特征在于，所述遮光層為黑色光致抗蝕劑層或金屬層。
7.根據權利要求1所述的指紋感測模塊，其特征在于，所述圖像傳感器為薄膜晶體管圖像傳感器。
8.根據權利要求1所述的指紋感測模塊，其特征在于，所述圖像傳感器為互補式金屬氧化物半導體圖像傳感器。
9.根據權利要求1所述的指紋感測模塊，其特征在于，所述圖像傳感器還包括基板，且所述多個光感測區中的像素電極與所述電路區中的電路皆配置于所述基板上。
10.根據權利要求9所述的指紋感測模塊，其特征在于，所述基板為玻璃基板或硅基板。
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