[發(fā)明專利]電磁繼電器和基體

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010521510.9
• 申請(qǐng)日: 2016-04-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111599646B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-04-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 橫山浩司;坂井智史
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H01H50/54
• 分類(lèi)號(hào): H01H50/54;H01H50/02;H01H1/22
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發(fā)明提供電磁繼電器和基體。電磁繼電器包括基體，其具有包圍可動(dòng)觸頭的周壁，周壁具有：第一內(nèi)壁；以及第二內(nèi)壁，其相對(duì)于所述第一內(nèi)壁位于第三方向上的一側(cè)，第一內(nèi)壁形成有：朝向第二內(nèi)壁突出的第一突出部；以及相對(duì)于第一突出部位于第一方向上的一側(cè)且朝向第二內(nèi)壁突出的第二突出部，第二內(nèi)壁形成有：朝向第一內(nèi)壁突出的第三突出部；以及相對(duì)于第三突出部位于第一方向上的一側(cè)且朝向第一內(nèi)壁突出的第四突出部，第一內(nèi)壁的位于第一突出部與第二突出部之間的區(qū)域相對(duì)于第一突出部及第二突出部位于第三方向上的另一側(cè)，第二內(nèi)壁的位于第三突出部與第四突出部之間的區(qū)域相對(duì)于第三突出部及第四突出部位于第三方向上的一側(cè)。

本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2016.04.11、申請(qǐng)?zhí)枮?01610220651.0、發(fā)明名稱為“觸點(diǎn)裝置以及電磁繼電器”的申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電磁繼電器和基體。

背景技術(shù)

以往，已知有可動(dòng)觸頭與固定觸點(diǎn)接觸分離的觸點(diǎn)裝置。日本特開(kāi)2012-22982號(hào)公報(bào)所記載的觸點(diǎn)裝置具有保持可動(dòng)觸頭的保持體以及與保持體連結(jié)的可動(dòng)軸。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供在具有簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)的同時(shí)能夠確保電弧空間且能夠抑制閃絡(luò)的觸點(diǎn)裝置以及電磁繼電器。

本發(fā)明的觸點(diǎn)裝置具有一對(duì)固定觸點(diǎn)、可動(dòng)觸頭、觸頭支架、可動(dòng)軸以及基體。一對(duì)固定觸點(diǎn)在第一方向上排列?？蓜?dòng)觸頭在與第一方向正交的第二方向上與一對(duì)固定觸點(diǎn)接觸分離。觸頭支架保持可動(dòng)觸頭?？蓜?dòng)軸以可動(dòng)觸頭與一對(duì)固定觸點(diǎn)接觸分離的方式使觸頭支架在第二方向上移動(dòng)?；w收納一對(duì)固定觸點(diǎn)、可動(dòng)觸頭以及觸頭支架。基體具有突出部，該突出部從與觸頭支架對(duì)置的位置向與第一方向以及第二方向均正交的第三方向突出。

本發(fā)明的電磁繼電器具有上述觸點(diǎn)裝置、以及以可動(dòng)觸頭與一對(duì)固定觸點(diǎn)接觸分離的方式驅(qū)動(dòng)可動(dòng)軸的驅(qū)動(dòng)裝置。

根據(jù)本發(fā)明，能夠確保電弧空間，并且能夠抑制閃絡(luò)。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的實(shí)施方式1所涉及的電磁繼電器的外觀立體圖。

圖2是圖1所示的電磁繼電器的II-II線的剖視圖。

圖3是圖1所示的電磁繼電器的III-III線的剖視圖。

圖4是圖1所示的電磁繼電器的IV-IV線的剖視圖。

圖5是圖2中的可動(dòng)觸頭進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)的剖視圖。

圖6是圖4中的可動(dòng)觸頭進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)的放大剖視圖。

圖7是圖6的局部放大圖。

圖8是本發(fā)明的實(shí)施方式1的變形例所涉及的電磁繼電器的剖視圖。

圖9是本發(fā)明的實(shí)施方式1的另一變形例所涉及的電磁繼電器的剖視圖。

圖10是本發(fā)明的實(shí)施方式2所涉及的電磁繼電器的主要部分的放大圖。

具體實(shí)施方式

在說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式之前，簡(jiǎn)單說(shuō)明現(xiàn)有的觸點(diǎn)裝置中的問(wèn)題點(diǎn)。

在日本特開(kāi)2012-22982號(hào)公報(bào)所記載的現(xiàn)有的觸點(diǎn)裝置中，觸頭支架(保持體)與基體的內(nèi)表面接觸，由此來(lái)限制觸頭支架以及可動(dòng)觸頭的旋轉(zhuǎn)。

然而，在該觸點(diǎn)裝置中，在觸頭支架以及可動(dòng)觸頭旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，可動(dòng)觸頭與基體的內(nèi)表面之間的距離變近，切斷所需要的電弧空間變窄。

以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式中的觸點(diǎn)裝置以及使用該觸點(diǎn)裝置的電磁繼電器進(jìn)行說(shuō)明。

(實(shí)施方式1)