[發明專利]一種高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材及其制備方法有效
| 申請號: | 202010521376.2 | 申請日: | 2020-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN111575534B | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發明(設計)人: | 郝世杰;黃詩涵;孫震;崔立山;田昀;黎昱 | 申請(專利權)人: | 中國石油大學(北京) |
| 主分類號: | C22C19/03 | 分類號: | C22C19/03;C22C1/02;C22F1/10;C21D9/52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 ni 納米 niti 形狀 記憶 合金 及其 制備 方法 | ||
本發明提供了一種高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材及其制備方法。在該型材中,高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金的化學式為NiaTi100?a,51.2≤a≤55。本發明提供的上述型材的制備方法包括如下步驟:使Ni、Ti原材料依次經過熔煉、均勻化退火、熱鍛成型、塑性加工處理,制得型材初坯;對所述型材初坯進行高溫固溶處理、低溫時效處理、冷變形處理、晶化退火處理,得到所述高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材。本發明的高Ni納米晶NiTi記憶合金型材中存在晶界富Ni而晶內貧Ni的成分非均勻現象。此外,該高Ni納米晶NiTi記憶合金型材能夠在?190℃至120℃的溫度范圍內具有良好的超彈特性。
技術領域
本發明涉及金屬納米材料技術領域,尤其涉及一種高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材的制備方法。
背景技術
NiTi形狀記憶合金已廣泛應用于生物醫療、航空航天、汽車等領域。尤其是深空(月球、火星等)探測器對材料的輕質化和服役溫度的特殊需求,要求NiTi形狀記憶合金在寬溫域具有高超彈應力。已報道NiTi形狀記憶合金無法滿足上述要求。眾所周知,對于超彈NiTi記憶合金,增加Ni含量,可快速降低Af(Ni原子含量每增加0.1%摩爾,Af下降10℃),顯著拓寬奧氏體穩定存在溫域。同時,提高固溶Ni原子含量可以阻礙應力誘發馬氏體相變,顯著提高超彈應力。由此可猜測,高Ni含量的NiTi記憶合金(如:Ni52Ti48 at.%)有望在寬溫域內實現高超彈應力。令人失望的是,采用傳統方法(高溫固溶+淬火)制備的高Ni-NiTi記憶合金在較寬溫度范圍內呈現拉伸脆斷,而無法展現出拉伸超彈特性。我們推測,若能提高高Ni-NiTi記憶合金斷裂強度,使得斷裂強度高于超彈應力,便可展現其超彈特性。其中,細晶強化是一種提高斷裂強度的有效方法。
研究表明,已報道的納米晶NiTi記憶合金相對于粗晶NiTi記憶合金具有超高的屈服強度或斷裂強度。然而,現有制備納米晶NiTi形狀記憶合金是通過大塑性變形加后續低溫晶化退火所得。而對于固溶態高的Ni-NiTi記憶合金,當Ni的原子百分比大于51%時,合金的塑性較差,不能進行大塑性變形加工,因此無法通過大塑性變形加后續低溫晶化退火方法實現納米晶化。因此,如何制備高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金是當前急需解決的問題。
發明內容
針對現有技術存在的問題,本發明目的在于提供一種高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材及其制備方法。
為達到上述目的,本發明提供了一種高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材,其中,高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金的化學式為NiaTi100-a,51.2≤a≤55。即在高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金,Ni的原子百分比含量為a%,Ti的原子百分比含量為(100-a)%。
根據本發明的具體實施方案,優選地,上述高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金由均勻的NiTi納米晶組成。納米晶的晶粒平均直徑優選為5-50nm,例如10nm。
根據本發明的具體實施方案,優選地,在高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材中,納米晶的晶界富Ni而晶內貧Ni,具有明顯的成分非均勻特征。
根據本發明的具體實施方案,該型材可以為絲材、板材或棒材等。
本發明還提供了上述高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材的制備方法,其包括如下步驟:
使Ni、Ti原材料依次經過熔煉、均勻化退火、熱鍛成型、塑性加工處理,制得型材初坯;
對所述型材初坯進行高溫固溶處理、低溫時效處理、冷變形處理、晶化退火處理,得到所述高Ni納米晶NiTi形狀記憶合金型材。
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