[發明專利]一種基于高斯混合模型的EPLL圖像去光照識別處理方法有效
| 申請號： | 202010519429.7 | 申請日： | 2020-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN111709344B | 公開（公告）日： | 2023-10-17 |
| 發明（設計）人： | 張子健;姚敏 | 申請（專利權）人： | 上海海事大學 |
| 主分類號： | G06V40/16 | 分類號： | G06V40/16;G06V10/74;G06V10/77;G06V10/774 |
| 代理公司： | 上海互順專利代理事務所(普通合伙) 31332 | 代理人： | 成秋麗 |
| 地址： | 201306 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 混合 模型 epll 圖像 光照 識別 處理 方法 | ||
1.一種基于高斯混合模型的EPLL圖像去光照識別處理方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟一：獲取先驗人臉圖像；
步驟二：將先驗人臉圖像劃分成大小相等的圖像塊，其中先驗人臉圖像劃分圖像塊的大小為n*n，其中n為整數，以所獲得圖像第一個像素點為劃分起始點，以所述圖像塊為基準依次進行劃分；
步驟三：計算所有圖像塊以向量形式構建的高斯混合模型，所述計算所有圖像塊以向量形式構建的高斯混合模型所采用的公式為：
其中，K為高斯模型的個數且K≥2,μ為模型均值，∑為模型的協方差，πk是權值因子，且
步驟四：獲取待處理人臉圖像；
步驟五：獲取圖像塊的EPLL值；
計算所述計算所有圖像塊的EPLL值所采用的公式為：
其中，RiX為一個矩陣，Ri代表從X中提取的第i個圖像塊的算子，logp(RiX)指在先驗P下第i個圖像塊的對數似然的度。這里使用高斯混合矩陣模型學習的先驗P(x)；
步驟六：計算代價函數的最小值，獲取待處理人臉圖像的光照分量，所述計算光照分量的代價函數所采用的公式具體表達為：
等價于
其中，Y是待去光照圖像，X是圖片光照分量，A是單位矩陣，λ是正則化參數，β是懲罰參數，{zi}為輔助變量集；
步驟七：獲取待處理人臉圖像的結構分量，其特征在于，所述獲取待去光照圖片結構分量計算公式為：
I(x,y)＝L(x,y)*R(x,y)
等價于
lnI(x,y)＝lnL(x,y)+lnR(x,y)
其中，I(x,y)為待去光照圖像各點的灰度值，L(x,y)為各像素點的光照分量，R(x,y)為各像素點的結構分量；
步驟八：計算pca算法的特征空間；
步驟九：獲取pca算法降維后的人臉結構分量；
步驟十：計算歐氏距離匹配人臉圖像。
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