[發明專利]一種地下通道下穿遷改后箱涵的結構體系及施工方法

在審

• 申請號: 202010518979.7
• 申請日: 2020-06-09
• 公開（公告）號: CN111779023A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 李志敏;雷崇;曹文軒;余行;高福華;雷鐸;尹進;趙靜靜
• 申請（專利權）人: 中鐵第四勘察設計院集團有限公司
• 主分類號: E02D29/045
• 分類號: E02D29/045
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 吳靜

本發明屬于地下工程領域，具體涉及一種地下通道下穿遷改后箱涵的結構體系，包括遷改后箱涵、地下通道和局部蓋挖支護結構，遷改后箱涵的正下方與地下通道相交處施做有局部蓋挖支護結構，局部蓋挖支護結構具有沿地下通道長度方向延伸的蓋挖預留通道，地下通道從蓋挖預留通道中穿過；其施工方法為：先在原箱涵的遷改設計位置的正下方與地下通道設計位置相交處施工局部蓋挖支護結構；然后遷改原箱涵至遷改設計位置，遷改后箱涵經過局部蓋挖支護結構的正上方；在后期施工地下通道時，在施做有局部蓋挖支護結構的位置處，采用蓋挖工法，對蓋挖預留通道中的土方進行水平開挖，然后施工地下通道。本發明能夠實現大型箱涵一次永久改遷，造價低，工期短。

技術領域

本發明屬于地下工程技術領域，具體涉及一種地下通道下穿遷改后箱涵的結構體系及施工方法。

背景技術

地鐵車站一般沿道路平行布置，為實現過街條件，相應設置地下通道。車站主體圍護施工前需將與主體結構縱向平行的既有大型箱涵遷改至道路另一側，遷改后的箱涵勢必與地下通道相交。在施工地下通道前需將箱涵二次改遷復原。該方法遷改次數多，費用高，工期長。

發明內容

為了克服上述現有技術存在的不足，本發明的目的是提供一種地下通道下穿遷改后箱涵的結構體系及施工方法，能夠實現大型箱涵一次永久改遷，造價低，工期短。

為實現上述目的，本發明的技術方案為一種地下通道下穿遷改后箱涵的結構體系，包括遷改后箱涵、地下通道和局部蓋挖支護結構，所述遷改后箱涵的正下方與所述地下通道相交處施做有局部蓋挖支護結構，所述局部蓋挖支護結構內具有沿所述地下通道長度方向延伸的蓋挖預留通道，所述地下通道從所述蓋挖預留通道中穿過。

進一步地，所述遷改后箱涵位于車站主體的一側。

進一步地，所述局部蓋挖支護結構包括先期圍護結構和臨時蓋板，所述地下通道沿其長度方向的兩側均設有先期圍護結構，所述臨時蓋板的兩側分別與所述地下通道兩側的所述先期圍護結構的頂部連接；所述先期圍護結構和所述臨時蓋板形成所述蓋挖預留通道。

更進一步地，所述先期圍護結構包括先期圍護墻或先期圍護樁。

更進一步地，所述先期圍護墻或所述先期圍護樁的頂部設有先期冠梁，所述臨時蓋板的兩側分別所述地下通道兩側的所述先期冠梁連接。

更進一步地，所述地下通道的頂面與所述臨時蓋板的底面之間具有一定的間距。

進一步地，所述遷改后箱涵與所述地下通道上下垂直布置。

本發明還提供一種上述的地下通道下穿遷改后箱涵的結構體系的施工方法，包括如下步驟：

1）在原箱涵的遷改設計位置的正下方與地下通道設計位置相交處施工局部蓋挖支護結構；

2）待局部蓋挖支護結構滿足強度要求后，遷改原箱涵至遷改設計位置，遷改后箱涵經過局部蓋挖支護結構的正上方；

3）后期施工地下通道，在施做有局部蓋挖支護結構的位置處，采用蓋挖工法，對局部蓋挖支護結構內的蓋挖預留通道中的土方進行水平開挖，然后在局部蓋挖支護結構內施工地下通道。

進一步地，步驟1）中施工局部蓋挖支護結構的具體步驟為：先在地下通道設計位置的兩側施工先期圍護結構，然后開挖土方，在先期圍護結構的頂部施工先期冠梁，并在先期冠梁之間施工臨時蓋板，同時使臨時蓋板的兩端與其兩側的先期冠梁連接固定。

與現有技術相比，本發明具有以下有益效果：

（1）本發明提供的地下通道下穿遷改后箱涵的結構體系及施工方法能夠實現大型箱涵一次永久改遷，造價低，工期短；