[發明專利]機器臂片上天線測試系統及測試方法

在審

• 申請號: 202010517663.6
• 申請日: 2020-06-09
• 公開（公告）號: CN111624415A
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 鄧曄;張金平;李斌;馬天野;李曉峰
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第十四研究所
• 主分類號: G01R29/10
• 分類號: G01R29/10;G01R1/04
• 代理公司: 北京律譜知識產權代理事務所(普通合伙) 11457
• 代理人: 黃云鐸

1.機器臂片上天線測試系統，其特征在于，該系統包括：光學平臺(1)，機器臂(3)，測試探頭(5)，射頻探針(8)以及待測天線支撐臺(10)；

所述光學平臺(1)上設置有所述待測天線支撐臺(10)，所述待測天線支撐臺(10)用于固定支撐待測片上天線，所述光學平臺(1)上還設置有所述射頻探針(8)，所述射頻探針(8)的探頭與所述待測片上天線相接觸，所述射頻探針(8)用于向所述待測片上天線發送第一射頻信號，其中，所述射頻探針(8)的探頭采用共面波導結構壓接在所述待測片上天線上；

所述機器臂(3)設置于所述光學平臺(1)上，所述機器臂(3)的末端設置有所述測試探頭(5)，所述測試探頭(5)位于所述待測片上天線的上方，所述測試探頭(5)用于接收所述待測片上天線發送的第二射頻信號，其中，所述機器臂為多軸機器臂；

所述光學平臺(1)下方還設置有氣浮裝置，以減小所述機器臂(3)運動時所述光學平臺(1)的晃動。

2.如權利要求1所述的機器臂片上天線測試系統，其特征在于，所述系統還包括：第一滑動導軌(2)；

所述第一滑動導軌(2)設置于所述機器臂(3)的下方，所述第一滑動導軌(2)用于拖動所述機器臂(3)在所述光學平臺(1)上橫向和/或縱向移動。

3.如權利要求1所述的機器臂片上天線測試系統，其特征在于，所述系統還包括：第一變頻模塊(4)；

所述第一變頻模塊(4)設置于所述機器臂(3)的末端與所述測試探頭(5)之間，所述第一變頻模塊(4)用于變換所述測試探頭(5)接收到的所述第二射頻信號的頻率。

4.如權利要求3所述的機器臂片上天線測試系統，其特征在于，所述系統還包括：變頻模塊支撐臺(6)和第二變頻模塊(7)；

所述變頻模塊支撐臺(6)設置于所述光學平臺(1)的上方，所述變頻模塊支撐臺(6)上設置有所述第二變頻模塊(7)，所述變頻模塊支撐臺(6)用于拖動所述第二變頻模塊(7)在所述光學平臺(1)上水平和/或垂直移動；

所述第二變頻模塊(7)上設置有所述射頻探針(8)，所述第二變頻模塊(7)用于變換所述射頻探針(8)向所述待測片上天線發送的所述第一射頻信號的頻率。

5.如權利要求4所述的機器臂片上天線測試系統，其特征在于，所述系統還包括：光學顯微鏡(12)；

所述光學顯微鏡(12)設置于所述光學平臺(1)的上，所述光學顯微鏡(12)的探測區域正對于所述待測天線支撐臺(10)，所述光學顯微鏡(12)用于獲取所述測試探頭(5)、所述待測片上天線以及所述射頻探針(8)的位置。

6.如權利要求5所述的機器臂片上天線測試系統，其特征在于，所述系統還包括：第二滑動導軌(11)；

所述第二滑動導軌(11)設置于所述光學顯微鏡(12)的底部，所述第二滑動導軌(11)用于拖動所述光學顯微鏡(12)在所述光學平臺(1)上橫向和/或縱向移動。

7.如權利要求5所述的機器臂片上天線測試系統，其特征在于，所述系統還包括：控制機柜(13)；

所述控制機柜(13)包括終端顯控系統(14)、以及機器臂伺服控制機(16)，

所述終端顯控系統(14)用于獲取所述光學顯微鏡(12)檢測到的所述位置，并根據所述位置向所述機器臂伺服控制機(16)發送位置調整指令，所述終端顯控系統(14)還用于根據接收到的測試指令向所述機器臂伺服控制機(16)發送測試移動指令，以及根據所述測試指令向所述矢量網絡分析儀(15)發送測試射頻調整指令，

所述機器臂伺服控制機(16)連接于所述機器臂(3)的控制端，所述機器臂伺服控制機(16)用于控制所述機器臂(3)運動，

所述矢量網絡分析儀(15)連接于所述第一變頻模塊(4)和所述第二變頻模塊(7)，所述矢量網絡分析儀(15)用于調整所述第一變頻模塊(4)和所述第二變頻模塊(7)的輸入輸出頻率。