[發(fā)明專利]使用氟化發(fā)泡劑制備三聚氰胺-甲醛泡沫的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010515777.7
• 申請(qǐng)日: 2020-06-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112063003A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S·A·魏瑟;J·M·塞弗特;P·沃爾夫;B·瓦斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 巴斯夫歐洲公司
• 主分類號(hào): C08J9/14
• 分類號(hào): C08J9/14;C08L61/28
• 代理公司: 北京北翔知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11285
• 代理人: 周志明;侯婧

一種制備三聚氰胺?甲醛泡沫的方法，所述方法包括加熱包含以下物質(zhì)的混合物并使其發(fā)泡：至少一種三聚氰胺?甲醛預(yù)縮合物、至少一種固化劑、至少一種表面活性劑和發(fā)泡劑混合物，其中所述發(fā)泡劑混合物包含2.5至20重量％的氟化醚。

本發(fā)明涉及一種制備三聚氰胺-甲醛泡沫的方法，所述方法包括加熱包含以下物質(zhì)的混合物并使其發(fā)泡：至少一種三聚氰胺-甲醛預(yù)縮合物、至少一種固化劑、至少一種表面活性劑和包含2.5至20重量％的氟化醚的發(fā)泡劑混合物；以及可通過(guò)該方法獲得的具有精細(xì)且均勻的孔結(jié)構(gòu)的三聚氰胺-甲醛泡沫。

WO 2014/037233公開(kāi)了一種制備三聚氰胺-甲醛泡沫的方法，所述方法包括使用微波輻射加熱包含以下物質(zhì)的混合物并使其發(fā)泡：至少一種三聚氰胺-甲醛預(yù)縮合物、至少一種固化劑、表面活性劑混合物、至少一種無(wú)機(jī)酸和/或有機(jī)羧酸的鹽、至少一種發(fā)泡劑。可用的物理發(fā)泡劑包括例如烴，鹵代的、特別是氟代的烴、醇、醚、酮和酯。優(yōu)選的物理發(fā)泡劑為丁烷和/或戊烷。

SU 1219604公開(kāi)了一種使用三氯三氟乙烷作為發(fā)泡劑制備三聚氰胺-甲醛泡沫的方法。

CN 101423648 A公開(kāi)了一種三聚氰胺泡沫管保溫材料及其制備方法。利用環(huán)境友好的氯氟烴、優(yōu)選I HFC-141b作為發(fā)泡劑。

JP11-269343 A2公開(kāi)了氟醚作為發(fā)泡劑用于制備具有精細(xì)孔結(jié)構(gòu)且孔尺寸范圍為50-100μm的三聚氰胺-甲醛泡沫的用途。使用具有式C_nH_2n+1OC_mF_2m+1(其中n＝1-4且m＝1-8)的氟醚化合物、優(yōu)選CF₃CF₂OCH₃。

WO 98/17715公開(kāi)了一種使用全氟醚以及氫化的含氯氟烴(HCFC)和氫化的碳氟化合物(HFC)作為發(fā)泡劑制備低密度可熔酚醛樹(shù)脂泡沫的方法。

本發(fā)明的一個(gè)目的是提供具有小的孔尺寸和窄的孔尺寸分布的三聚氰胺-甲醛泡沫。

該目的通過(guò)一種制備三聚氰胺-甲醛泡沫的方法實(shí)現(xiàn)，所述方法包括加熱包含以下物質(zhì)的混合物并使其發(fā)泡：至少一種三聚氰胺-甲醛預(yù)縮合物、至少一種固化劑、至少一種表面活性劑和發(fā)泡劑混合物，其中該發(fā)泡劑混合物包含2.5至20重量％的氟化醚。

WO 2014/037233中公開(kāi)了適于制備三聚氰胺-甲醛泡沫的方法和所使用的原材料。

原則上可使用本領(lǐng)域技術(shù)人員已知且記載于文獻(xiàn)中的任何三聚氰胺和甲醛的縮合產(chǎn)物作為三聚氰胺-甲醛預(yù)縮合物。優(yōu)選使用三聚氰胺∶甲醛的摩爾比范圍為1∶1.5至1∶4、優(yōu)選1∶1.6至1∶3.5且更優(yōu)選1∶2至1∶3的三聚氰胺-甲醛預(yù)縮合物。優(yōu)選的三聚氰胺-甲醛預(yù)縮合物的平均分子量(數(shù)均)M_n的范圍為200g/mol至1000g/mol、優(yōu)選200g/mol至800g/mol且更優(yōu)選200g/mol至600g/mol。

在本發(fā)明的方法中，發(fā)泡劑的乳化和泡沫的穩(wěn)定化需要添加表面活性劑。可使用陰離子、陽(yáng)離子和非離子表面活性劑及其混合物作為分散劑/乳化劑。

優(yōu)選地，使用50至90重量％、更優(yōu)選65至90重量％且最優(yōu)選75至90重量％的陰離子表面活性劑和優(yōu)選10至50重量％、更優(yōu)選10至35重量％且最優(yōu)選10至25重量％的非離子表面活性劑的混合物，其中，重量百分比各自基于所述表面活性劑混合物的總重量計(jì)。

合適的陰離子表面活性劑包括：例如二苯并呋喃磺酸鹽、烷基磺酸鹽和烷基苯磺酸鹽、烷基萘磺酸鹽、烯烴磺酸鹽、烷基磺酸鹽、烷基醚磺酸鹽、脂肪醇硫酸鹽、脂肪醇聚乙二醇醚硫酸鹽、醚硫酸鹽、α-磺基脂肪酸酯、酰胺基烷基磺酸鹽、酰基羥乙基磺酸鹽、烷基醚羧酸鹽、N-酰基肌氨酸鹽、烷基磷酸鹽和烷基醚磷酸鹽。