[發(fā)明專(zhuān)利]一種觸控顯示面板及其制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010514003.2
• 申請(qǐng)日: 2020-06-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111766969B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曾憲祥
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06F3/041
• 分類(lèi)號(hào): G06F3/041
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 何輝

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N觸控顯示面板及其制作方法，該觸控顯示面板包括：顯示基板，顯示基板在非顯示區(qū)的綁定區(qū)設(shè)有多個(gè)金屬接觸墊；顯示基板包括層疊設(shè)置的有機(jī)膜層和無(wú)機(jī)膜層，有機(jī)膜層和無(wú)機(jī)膜層在對(duì)應(yīng)金屬接觸墊的位置內(nèi)陷形成缺口，以露出金屬接觸墊；觸控層設(shè)于顯示基板上，包括觸控電極及觸控引線(xiàn)；觸控引線(xiàn)的一端與觸控電極電連接，另一端延伸至綁定區(qū)與金屬接觸墊電連接；其中，位于金屬接觸墊之外的非金屬接觸區(qū)中的有機(jī)膜層和無(wú)機(jī)膜層之間設(shè)置有非晶硅過(guò)渡層。本申請(qǐng)通過(guò)設(shè)置非晶硅過(guò)渡層從而使綁定區(qū)內(nèi)的非金屬接觸區(qū)的膜層粘附性增大，進(jìn)而有效避免柔性電路板綁定后容易發(fā)生脫落的問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種觸控顯示面板及其制作方法。

背景技術(shù)

DOT(Direct?on-cell?touch)是目前手機(jī)觸控技術(shù)的主要趨勢(shì)。DOT技術(shù)是采用金屬網(wǎng)格狀的觸控電極，基于互電容觸控原理，將金屬網(wǎng)格狀電極在特定位置設(shè)置斷點(diǎn)，形成Tx/Rx觸控電極。

采用DOT技術(shù)的觸控顯示面板相較外掛式觸控顯示面板具有以下優(yōu)勢(shì)：一是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，輕薄，節(jié)省手機(jī)內(nèi)部空間；二是減少外掛觸控面板的貼合工藝，制程簡(jiǎn)單，降低制作及材料成本等。但是，采用DOT技術(shù)的觸控顯示面板的觸控層需要通過(guò)柔性電路板與顯示基板搭接，由于不同膜層之間的搭接粘附性較差，導(dǎo)致柔性電路板綁定后容易發(fā)生脫落。

因此，現(xiàn)有技術(shù)存在缺陷，急需解決。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N觸控顯示面板及其制作方法，能夠解決現(xiàn)有觸控顯示面板綁定區(qū)的非金屬接觸區(qū)的膜層搭接粘附性較差，導(dǎo)致柔性電路板綁定后容易發(fā)生脫落的問(wèn)題。

為解決上述問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┑募夹g(shù)方案如下：

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N觸控顯示面板，包括：

顯示基板，所述顯示基板的非顯示區(qū)上設(shè)有用于與柔性電路板綁定的綁定區(qū)，所述綁定區(qū)設(shè)置有呈一維陣列排布的金屬接觸墊；

所述顯示基板包括層疊設(shè)置的有機(jī)膜層和無(wú)機(jī)膜層，所述有機(jī)膜層和所述無(wú)機(jī)膜層在對(duì)應(yīng)所述金屬接觸墊的位置內(nèi)陷形成缺口，以露出所述金屬接觸墊；

觸控層，設(shè)于所述顯示基板上，包括觸控電極及觸控引線(xiàn)，所述觸控電極對(duì)應(yīng)顯示區(qū)設(shè)置，所述觸控引線(xiàn)的一端與所述觸控電極電連接，所述觸控引線(xiàn)的另一端延伸至所述綁定區(qū)與所述金屬接觸墊電連接；

其中，位于所述金屬接觸墊之外的非金屬接觸區(qū)中的所述有機(jī)膜層和所述無(wú)機(jī)膜層之間設(shè)置有非晶硅過(guò)渡層。

在本申請(qǐng)的觸控顯示面板中，所述無(wú)機(jī)膜層的材料為氮化硅，所述有機(jī)膜層的材料為感光性聚酰亞胺。

在本申請(qǐng)的觸控顯示面板中，所述顯示基板對(duì)應(yīng)所述非金屬接觸區(qū)還包括氧化硅過(guò)渡層，所述氧化硅過(guò)渡層位于所述非晶硅過(guò)渡層之上，所述非晶硅過(guò)渡層與所述有機(jī)膜層接觸，所述氧化硅過(guò)渡層與所述無(wú)機(jī)膜層接觸。

在本申請(qǐng)的觸控顯示面板中，所述缺口與所述金屬接觸墊一一對(duì)應(yīng)，所述非晶硅過(guò)渡層對(duì)應(yīng)所述缺口之外設(shè)置；或者，所述非晶硅過(guò)渡層與所述氧化硅過(guò)渡層均對(duì)應(yīng)所述缺口之外設(shè)置。

在本申請(qǐng)的觸控顯示面板中，所述顯示基板對(duì)應(yīng)所述顯示區(qū)包括像素發(fā)光區(qū)，所述觸控電極對(duì)應(yīng)設(shè)置于相鄰兩所述像素發(fā)光區(qū)之間，所述觸控電極為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，包括同層交叉設(shè)置的第一電極與第二電極，所述第一電極與所述第二電極用于響應(yīng)觸摸操作生成觸摸感測(cè)信號(hào)，所述第二電極在與所述第一電極的交叉位置處斷開(kāi)并通過(guò)橋接線(xiàn)電連接。

在本申請(qǐng)的觸控顯示面板中，所述無(wú)機(jī)膜層包括層疊的第一無(wú)機(jī)膜層和第二無(wú)機(jī)膜層，所述第一無(wú)機(jī)膜層上設(shè)置有所述橋接線(xiàn)，所述第二無(wú)機(jī)膜層在對(duì)應(yīng)所述橋接線(xiàn)的兩端設(shè)置有過(guò)孔，所述第一電極與所述第二電極設(shè)置于所述第二無(wú)機(jī)膜層上，所述第二電極通過(guò)所述過(guò)孔與所述橋接線(xiàn)連接。